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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 S&01SX6  
    \ 3G*j`  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 NjP ]My  
    r=$gT@  
    ohsH2]C  
    概述 ]QS](BbD:  
    q^]tyU!w  
    BSDk9Oc  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 5~[N/Gl  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 :H\&2/j  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 (#z;(EN0t  
    Qi:j)uDW  
    l5HWZs^  
    4#h ?Wga  
    衍射级次的效率和偏振
    QkE,T0,/?h  
    y\Dn^  
    $3 vhddO  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 9GPb$ gtx  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 6w!e?B2/%  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 x~Agm_Tu+'  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 _.=`>%,  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 b^Z$hnh]S  
    ph#efY`a:  
    8 }z3CuM  
    光栅结构参数 lM+ xU;  
    QT;Va#a  
    ~},~c:fF?  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 A6i et~h[  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 k(v"B@0  
    •因此,选择以下光栅参数: 6ZOAmH fs  
    - 光栅周期:250 nm f?0D%pxc}&  
    - 填充系数:0.5 <A{y($  
    - 光栅高度:200 nm u}m.}Mws  
    - 材料n1:熔融石英 -ek1$y9)  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) (H1lqlVWV#  
    ?@3&dk~ni  
    !&JiNn('  
    ]738Z/)^  
    偏振状态分析 B kV(81"C  
    P\T|[%E'  
    pg!`SxFD  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 gD1+]am  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ~v\hIm3=m  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Rn;VP:HM  
    ?} X}#  
    %yvA   
    ^r4|{  
    产生的极化状态 _25d%Ne0  
    6?!I  
    ctK65h{Eo  
    S\b K+  
    wibwyzo  
    其他例子 4(8<w cL  
    j[H0SBKC  
    \ =Nm5:  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 6W:1>,xS  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 (Z 8,e  
    #Z!#;%S  
    u>m'FECXj  
    x,f>X;04  
    光栅结构参数 7$#rNYa,z  
    s,kU*kHn  
    q- H&5K  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 5pmQp}}R  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 7O9n!aJ  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 |mvM@V;^8{  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 C rfRLsN]  
    qS| AdkNL  
    LGfmUb-{]  
    光栅#1 ?^F5(B[+Y  
    'QnW9EHLF  
    8(^ ,r#Gy  
    V pH|R  
    +nzTxpcP@K  
    •仅考虑此光栅。 ZBC@xM&-  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ([tG y  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 E$R_rX4x  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 vU{jda$$#  
    ]xYayN!n  
    _<3r'Y,  
    假设光栅参数: XR<G} x  
    •光栅周期:250 nm 4ODX 5If  
    •光栅高度:660 nm j=\Mx6os  
    •填充系数:0.75(底部) d{3I.$ThH  
    •侧壁角度:±6° );!dg\U  
    •n1:1.46 V>r j$Nc]  
    •n2:2.08 Ym`1<2mq\  
    @f%wd2  
    光栅#1结果 rXuAixu!t  
    jQkUNPHu  
    Q~b_dx{m  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 $^ubo5%  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 | 4 `.#4  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    w~n kNqm  
    6}"lm]b  
    p8_2y~ !  
    a 1NCVZ  
    光栅#2 Nv{eE<<6  
    5/k)\`  
    xp(mB7;:  
     J(^ >?d'  
    p#z;cjfSt  
    •同样,只考虑此光栅。 }pt-q[s>  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 y6\ [1nZ  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 bYK]G+Ww  
    假设光栅参数: O8iu+}]/6  
    •光栅周期:250 nm 6Z$b?A3zM  
    •光栅高度:490 nm o;%n,S8J|^  
    •填充因子:0.5 EtJD'&  
    •n1:1.46 }\U0[x#q  
    •n2:2.08
    b~F!.^7Q  
    e`vUK.UoW  
    光栅#2结果 tG_-;03<`4  
    3JTU^-S<  
    S7Qen6lm  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 sBbL~ce50?  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 8.PXTOhVL  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 vrQFx~ZztH  
    b5[f 5  
    q;IhLBl'  
    文件信息 "i}Z(_7yr  
    HK^a:BI  
    9DmSs=A  
    V2lp7"  
    #wGQv  
    QQ:2987619807 g<0w/n!jmC  
     
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