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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 &e3z)h  
    _Ndy;MQ  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 o"QpV >x  
    Q.M3rRh  
    jVk|(  
    +z("'Cv  
    建模任务 *w> /vu  
    E(]yjZ/  
    klJDYFX=HK  
    概观 nV"[WngN  
    hMhD(X  
    3)42EM'9(  
    光线追迹仿真 *.voN[$~  
    -aKL 78  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 sOU_j4M{  
    98o;_tU'  
    •点击Go！ Ldt7?Y(V(  
    •获得3D光线追迹结果。 &v3r#$Hj[  
    #;}IHAR  
     7{az %I$h  
    --",}%-  
    光线追迹仿真 BFj@Z'7P  
    _Y\@{T;^Zb  
    ~]c^v'k  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 rv|k8  
    •单击Go！ +=u*!6S  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     8*6J\FE<p  
    .$v]B xu  
    YVu8/D@ o  
    !i}G>*XH,  
    场追迹仿真 #Yj0'bgK  
    |[k6X=5  
    &\C vrxa  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 i&.F}bEi  
    •单击Go！     $. V(_  
    b39;Sv|#  
    iVXR=A\er  
    >SfC '*1  
    场追迹结果（摄像机探测器） Arfq  
     R&PQ[Xc  
    rYm<U!k  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 zS?i@e $  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 1T}|c;fc  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Of([z!'Gc  
    {} vl^b  
    vbwEX6  
     q. BqOa:  
    场追迹结果（电磁场探测器） %q ja:'k  
    \O7,CxD2  
    @@ ZcW<Y"  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     e$F7wto  
    bmT  J  
    WxO*{`T!  
    文件信息 nW|[poQK  
    9h*$P:S;1v  
     6LvUi|~"<  
    ]p0m6}B  
     G*J(4~Yw}  
    QQ：2987619807 X8;03EW;  
     
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