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摘要 ZXFAuF t(Q&H!~e
在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 _A@fP[C W\ 1bE(AwZ TnbGO; 建模任务 c+,7Zu! o(Ua",| -13P 2<i+ 结果 VJ~X#Q ~8KF<2c 4yJ*85e] 结果 Q1O_CC} zIAu3 BR&Qw'O% 结果 ;~'cITL pmow[e pJ2:` f<; 文件信息 6b#:H~ < F#!@}K8 $'J6#Vs
QQ:2987619807
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