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摘要 T4V[RN
4/*]` 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 3q'K5}
_ pj!k|F9 ^z[_U}N\} Nbgp_:{ 建模任务 fl!mYCPv IL!BPFG w 1zdYBb6;j 概述 h=X7,2/< fdd~e52f •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ! a86iHU •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
*Zc9yZl2 qsI{ b<n a^@+%?X c}YJqhk0J 光线追迹仿真
DY$yiOH9 BfX%|CWh •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 {\P?/U6~f •单击go! gBMta+<fE~ •获得了3D光线追迹结果。 RI?NB6U RwUW;hU <MRC%!. !$xzAX,
光线追迹仿真 7TP$
Q{O/xLf •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 mG
X\wta •单击go! 8a7YHUL<3i •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 $H4=QVj6 FSv1X k9cK bf@ VZ;@S3TS 场追迹仿真 HTw#U2A;+ A5+q^t} •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 #sL/y •单击go! Yi[4DfA 8:~b
&> u]R$]&< rYbCOazr 场追迹仿真(相机探测器) : sFo
P7'M],!9w •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 hRk,vB] •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 "8FSA`>= T=.-Cl1A iEe#aO"D! Bf/|{@ 场追迹仿真(电磁场探测器) nYhp`!W4; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 a`s/ qi &u("|O)w$ _;#9!"& 3\]~!;dI 场追迹仿真(电磁场探测器)
C[R`Ml \,hrk~4U;( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 p x0Sy| / xs9.w8- Ep<YCSQy$i CGkI\E 文件信息 7r[' 4Mi~1iZj 2p+C%"n> ~oo'ky*H! 更多阅读 (m/aV Tn /Ut}]O -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ? -CV
%l -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _Yy:s2I8B [1Uz_HY["3 #%4=)M>^ QQ:2987619807 Hxn<(gd
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