[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 MzFFWk  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 I4|LD/b  
$:?Dyu(Il  
xTU;rJV  
q+znb'i-x  
该用例展示了… }qw->+nD  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： >'lvZt  
倾斜光栅介质 uTdx`>M,O  
体光栅介质 J$W4AT  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 "ejsz&n  
SK5_^4  
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+CVB[r#hu  
光栅工具箱初始化 5tI#UBha  
S:K$fFcJ  
lak,lDt]  
 初始化 mm9uhlV8  
开始-> s{Og3qUy  
光栅-> NXk~o!D  
通用光栅光路图 p[O\}MAd#  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 vX7U|zy  
光栅结构设置 .L9g*q/}  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 1CO
Sbi]  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Q>q-6/|UX  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 5hHLC7tT9  
QuP)j1"X  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ?y]R /?  
RWRqu }a  
堆栈编辑器 D^QL.Du,  
r$1b=m,0d  
f}~=C2R1<!  
(rc7Cp3  
堆栈编辑器 l^XOW- ;u  
`W>Sss  
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涂层倾斜光栅介质 3-=AmRxW't  
M&jlUr&l  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 x=Aq5*A0  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 *8J0yv  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 v}J0j  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 9Trk&OB  
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涂层倾斜光栅介质 `M*jrkM]x  
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(&1.!R[X  

V%{WH}  
涂层倾斜光栅介质 .R@s6}C`}=  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 Sgr. V)  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 s3T7M:DM4  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 sq;!5qK  
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涂层倾斜光栅介质参数 h-//v~V)  
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u|Oc+qA(  
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涂层倾斜光栅介质参数 Z^}[CQ&Am  
}a/z.&x]V  
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高级选项&信息 L+VQtp&"  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 3A{)C_1a  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 /\_n5XI1  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 kxN O9w  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 eM 5#L,Y{  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ok [_Z;  
Y+o\?|q-E  
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[Y$TVwFwX  
高级选项&信息 .P`QCH;Ih  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 '!ks $}$`h  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ~#4FL<W  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 BVj(Q}f8  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ";7xE#jRk  
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L&y"oAp<  
高级选项&信息 ?G,gP
b  
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高级选项&信息 9gdK&/ulR  
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体光栅介质 F~qZIggD  
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 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 JBLUX,  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 j}B86oX  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 }IZw6KiN  
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体光栅介质参数 $/|) ,n  
r#2Fk&Z9  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 :\qapFV  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 8PH4v\tJEK  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 <K<#)mcv  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 5-$D<}Z  
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rm9>gKN;#  
L'S,=NYXY  
体光栅介质参数 jwAYlnQ^EM  
ypG*41  
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X[r0$yuE  
高级选项&信息 c?EvrtND  
9]w?mHslE  
#=S^i[K/  
Hnk&2bY  
高级选项&信息 }.&;NgZS  
&mmaoWR  
OqDP{X:  
7L6L{~8 W  
在探测器位置处的备注 tE{M  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 +)WU:aKI  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 \.O&-oi  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 jq*`| m;Q  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） =#[oi3k  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 dd<l;4(  
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文件信息 isd-b]@:Lc  
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QQ：2987619807 SU4i'o