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摘要 , $;g'z!N {sn :Lj0 VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 7lP3\7wD@9 1\v$8pP+ wLa^pI4p ^ w8~J5XS 介质目录中的斜光栅介质 $`nKq4Y y&y(<
B@ab[dm280 re.%$D@ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 TmN}TMhZ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 WZ.d"EE" 6k#H>zY, 斜光栅介质的编辑对话框 WA);Z= 9&'I?D&8 *q5'~)W< !*46@sb: 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 Q:iW k6 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ETu7G5? 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 'pE %'8R 斜光栅介质的编辑对话框 FV[6">;g +mBJvrI 5io7!% C,C=W]G 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 eO,
以下参数可用: gbc^Lb - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) ?FRR"; - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ?e|'I" - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) ivdw1g|)h - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) &`7~vA&c _/[n/"gn 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 ~A8%[.({5 0/.#V*KM 斜光栅介质的编辑对话框 0XlX7Sk+ [7Nn%eZC
39!o!_g %EPqJ(T 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 *$(=I6b 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 O$
i6r]j_ RJs_ S 斜光栅介质的编辑对话框 YtQKsM X$JO<@x ,8(%J3J syh0E=If_ z(<
E % 首先,必须选择涂层材料。 ^_<>o[qE 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 u)P$xkf 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 :C42yQAP OU=9fw 斜光栅的编辑对话框 F~d
!Ub$> Ja-D}|; Fm}O,= U]sU
b3 BO\l>\)Ir 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 +Z XGT 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 Rn{q/h )EO/P+& 堆栈使用的评论 Y,D\_il_ kyJv,!}; "!)8bTW 89l_%To F dv&kK! 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 c7\bA7. 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 z>j%-3_1 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 5*buRYck0 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Ao96[2U6 wri[#D { 斜光栅介质的采样配置 af{;4Cr xSb/98; 斜光栅介质采样 5d}PrYa ?vRz}hiy %8o(x 0 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 NtTLvO6 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 q1dYiG.-Z 在右边,显示了介质的预览。 ECkfFE` 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ~73"AWlp wX 41R]pF 8zj09T[ >K\ 79<x| 采样斜光栅#1 k5-mK{RZ
8KWTd MPzqw)_-v rvE!Q=y~ 采样斜光栅#2 N#.IpY'7Ze P>N\q (f#W:]o/ iI&SI#;
_ 采样斜光栅#3 5!nZvv [RpFC4W U}A+jJ WgPL4D9= 采样斜光栅#4 n;rOH[P Xkv>@7ec
1}jE?{V* I:6xDDpZG` 文档信息 rW\~s TH C)C;U&Qd bkOm/8k|4 3b&W=1J %Vt@7SwRJ QQ:2987619807 G~esSL^G/
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