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摘要 `-EH0'w~" %s@S|<
W VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 !GGGh0Bj IPR tm! J1p75c% jc.JX_/ 介质目录中的斜光栅介质 t?nc0;Q9,@ km\ld&d]$ ?5v5:U(A 'cF%4F 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 1H4Zgh
U 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 C{hcK 1-K j"IM,= 斜光栅介质的编辑对话框 Dp*$GQ XCIa2Syo )ozcr^ _7#tgZyv 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 Ryq"\Q>+ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 LJ(n?/z% 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 n1>,#|# 斜光栅介质的编辑对话框 ^'[@M'`~L ~x4B/zW? #xP!!.DF( MFH"$t+ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 |[37:m 以下参数可用: q|u8CX - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) TwuX-b - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) 2yQ}Lxr( - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) GX@W"y - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) Y
<Znv%M )jk1S 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 u.kYp q^N0abzgP 斜光栅介质的编辑对话框 B80odU& B8UZ9I$n wVp4c?s !rXcGj(k 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 *F
szGn< 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 iTLW<wG \+{t4Im 斜光栅介质的编辑对话框 Sn(l$wk= !)%>AH' MV<!<Qmj J`r,_)J"2 j6e}7 首先,必须选择涂层材料。 ^RV 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 "X5_-l 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 ;V~rWzKM( CzSZ>E$%U 斜光栅的编辑对话框 %'"HGZn b B [+(r Eq=wdI {Vxc6,= MyH[v E^b 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 l`b1%0y 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 Vd%v_Ek e"fN~`NhY 堆栈使用的评论 382* 2$
|]Vj*Zs i*S|qX7`` j0iAU1~_VX X>Al:?`}N 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 D0/DI 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 oTCzY Y 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 #ya\Jdx 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 E dn[cH7 T-|9o|~z 斜光栅介质的采样配置 jg
[H} `KpFH.k.K 斜光栅介质采样 UvxSMD:A SyK 9Is{8 {~bIA!kAFI 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 y?pD(u 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 J7BFk
?= 在右边,显示了介质的预览。 BXg!zW%+ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 G'f9N^w "l@A[@R 7qe7Fl3 -<qxO 采样斜光栅#1 7\A4vUI3 D~#Ei?aH $Y6I_U
x\hWyY6J[ 采样斜光栅#2 AGOx@;w jn-QKdqM 7J9l.cM3 D ]OD. 采样斜光栅#3 gmh5
%2M 2fl4h<V c$0_R;4/ ep+ 采样斜光栅#4 @}<"N egm)a
i S% } h[>U 文档信息 M`GP^Ta *'D=1{WZ! .xO
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M7Zl zZ%DtxUoU. QQ:2987619807 zJ9v%.e
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