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摘要 r%0pQEl QJx9I_ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 3c c1EQ9 8@E8!w&~ `5~7IPl3 建模任务 {IJ-4> tf4*R_6;1$ n
vm^k 结果 `vudS? +0VG[c\8 p1+7<Y: 结果 $Axng
J c $fj])>=H :@.C4oq 结果 m&Lt6_vi XZ}de%U1 QQ@9_[N 文件信息 E]NY
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QQ:2987619807
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