1. 摘要
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A#C 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
}3[ [ONA v/yk T9@; h r6f}2 M5) 6|T 2. 建模任务
Nt/*VYUn Ti' GSL Pi*,&D>{7 RNvtgZ}k{X 3. 概述
@~gz-l^$ |u;5|i 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 9,,v0tE 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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86}^=-5 4. 光线追迹仿真
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i 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
SH}O?d\Q: 点击“Go!”。
.+[[m$J 随即获得3D光线追迹结果
)UJ]IB-Q|1 j@9nX4Z * rs_k/2( 'Y"q=@Ei9 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
`C!Pe84( 点击“Go!”。
o-)E_X 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
Z.R^@@RqJ "sHD8TUX lXz<jt@5 rqa;MPl 5. 场追迹仿真
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t g" M1HxlV 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
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Es= 点击“Go!”。
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f 1^$Io}o:S 14^t{ 6. 场追迹结果(相机探测器)
V25u'.'v IPT}JX' OK2wxf 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
x3M`l| 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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w 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
@7BH`b$)! 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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文件信息
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kU#$ b8`O7@ar fd)}I23Q' (来源:讯技光电)