摘要
7DW]JK l *MNHT`Y^o 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
M_0zC1 'J*<iA*W 9n]|PEoAB \hO2p6 建模任务
Uv_N x10 ub0zJTFJ# "o!{51!' 概述
-37a. !U_K&f •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
iVtl72O •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
5/[H+O1; )o1eWL} V=I"-k}RL gIWrlIV{9 光线追迹仿真
z@s5m} B(k=oXDF •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
JN/UUfj •单击go!
3OyS8` •获得了3D光线追迹结果。
`i,_aFB| Hi!Jj r90+,aLM#? :qhpL-ER 光线追迹仿真
Bsf7mcXz7z {P9J8@D •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
DVZdClAL •单击go!
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AB •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
EO|:FcW 9CGNn+~YI K`}{0@ilCw 0oA{Jix 场追迹仿真
{n3EGSP# _Jz8{` " •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
*F^wtH` •单击go!
oq/G`{`\ !9*c8bL D kB:Uu}(=N r'LVa6e"N 场追迹仿真(相机探测器)
<%}QDO8\i F~#zxwd •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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KA •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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^Jp&H\gI. 场追迹仿真(电磁场探测器)
}K1 0Po' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ( m\$hX -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination CZnK8&VDY t-
u VZ!`\ (来源:讯技光电)