摘要
LNL}R[1( SrA6}kS 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
AG >D,6Y ~vF*&^4Vh 
(CQ! &Z8 <(E)M@2 建模任务
c<1$ zQY! Q }&'1J 
rbf5~sw&8+ 概观
h x^@aI P.(UbF d' 
(0`rfYv5.R 光线追迹仿真
1 XS~b-St ^ iu)vED •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
|mhKD#: Xz AXcxC6G •点击Go！
yc0
1\o •获得3D光线追迹结果。
#mH28UT ejg!1*H@n 
)+FnwW py$Gy-I~[ 光线追迹仿真
e \z,^ |f}wOkl u9_? c
G- •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
H~[q<ybxr •单击Go！
K%9!1' •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
;zqxDl _ c%< 81Y= 
T c-fO
/0 d/NjY[` 5+ 场追迹仿真
Ps!
\k%FUl j\#)'>" O-AC$C[d •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
.yDR2 sW •单击Go！
h<IAH Cz;( 8f,",NCgc 
@V4nc
'o. 9 Eh*r@> 场追迹结果（摄像机探测器）
9 'X "a 8U#14U5rS }T%E;m- •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
p+I`xyk •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
<MxA;A Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
a;i} <n7 :hHKm|1FE 
0>,i]
|Y $y)tcVc 场追迹结果（电磁场探测器）
Jcv p< jxK
`ShW= J^ kSp •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
z#5qI',L * R&77 o7 
:>y5'q@R 文件信息
)x5w`N]lm X56.Y. 
T5[(v Tp 2%l(qf N9 更多阅览
zll?/|% -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer *eAt ' -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 'mU\X!-
4< H8c -/ （来源：讯技光电）
