摘要 !@T5]( zV Z#zXary5s VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
,56objaE AGV+Y6 ?t [C?{' e"cvo(}g 介质目录中的斜光栅介质 cH`ziZ<&m1 AvcN, A>C8whx mJ'5!G 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
ki?ETC 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
<"Yx}5n. rnP *} 斜光栅介质的编辑对话框 ' 1D1y' W3A9uk6 r:5u(2 Yu:!l> 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
H{g&yo 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
2h#_n'DV 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
[! YSW' 斜光栅介质的编辑对话框 xeW}`i5_w
^oDSU7j5,
z4r g.ai ;uaZp.<um& 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
zhVkn]z~* 以下参数可用:
i\C~]K~O! - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
.&rL>A2U - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
@i(;}rx - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
-J^t#R^$` - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
mI,!8# Y\j5{;V 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
z K6'wL!!I O"emse}Z 斜光栅介质的编辑对话框 S3sxK: =6xxZy[ W$`p ,$ .n Pk^W+M_)~ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
dPmNX-'7 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
%YwIR.o ?dY|,_O 斜光栅介质的编辑对话框 6$
ag< 94xWMX2 A;7At!kK u%AyW kB=\a( 首先,必须选择涂层材料。
q]wP^;\Jl 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
`Zd\d:Wyv 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
t&H3yV nE=,=K~ 斜光栅的编辑对话框 +t*Ks_V,*
CYZ0F5+t
et}%E9 !1xX)XD4y 8}{W.np_ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
DgKe!w$ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
!@9G9<NK {qb2!}FQ 堆栈使用的评论 jn+BH3e
W5R /
9K4Jg]? vu`,:/|h Y1 *8&xT 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
X*e<g= 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
|6!L\/}M% 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
8Lr&-w8J 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
S(Q=2Y #L9F\ <K 斜光栅介质的采样配置 .{4U]a;[ .a7!*I#g 斜光栅介质采样
abkt&981K+ ~'#,*kA:6 rixt_}aE 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
um*!+Q 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
';3#t(J; 在右边,显示了介质的预览。
o>Q=V0? 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
EJ=ud9 ^(~%'f @y(<4kLz MhZ\]CAs9 采样斜光栅#1 k.!m-5E 2dnyIgi cCO2w2A[* lC'U3Q& 采样斜光栅#2 vY2^*3\<D \&b1%Asyz UQ}#=[)2e cA{7*=G? 采样斜光栅#3 >Qx
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$M| tPaNhm[-q7 D"8 ?4+ 采样斜光栅#4 [(m+Ejzi% ?XB[awTD~ z~Is
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