摘要 52upoU>}2 '!f5?O+E VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
[r/k% < 29XL$v], G,;,D9jO7 jqr1V_3( 介质目录中的斜光栅介质 ie-vqLc lO2[JP DcSnia62f v&Kqq!DE 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
r-,e;o>9 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
64:fs?H /%lZu^ 斜光栅介质的编辑对话框 #07g d#j4 0ZQ' _g|% ktDC/8 _)]CzBRq\6 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
`K,1K 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
jD7Nb lX 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
G%d
( 斜光栅介质的编辑对话框 wcDRH)AW.
m|OO,gR
%'0TXr$ Pz$R(TV 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
a1Qv@p^._b 以下参数可用:
MQin"\ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
C*nB - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
%v2R.?F8 - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
<T[E=# - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
%/updw#{B F: mq'<Q 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
u+{a8= ZoArQ(YFy 斜光栅介质的编辑对话框 +VQ\mA59 i*CZV|t US vzmc}y G 5E notp[ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
9(":,M(/o 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
}<'5 z
qS Mfv1Os:ST 斜光栅介质的编辑对话框 q{+_
<2U| &IlU|4`R% qTQBt} *{+G=d 2h%z ("3/ 首先,必须选择涂层材料。
~Ch+5A; 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
-kbg\,PW 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
@Vu(XG c_elShK8# 斜光栅的编辑对话框 eilYA_FL.
IT$25ZF
(e"iO`H f|sFlUu& $ [yFsA6 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
WVLHfkN 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
EAeqLtFqs |2KAo!PI 堆栈使用的评论 (dv]=5""
A2|Ud_
R i^[i}
"9n3VX) R"K#7{p9 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
: >>@rF , 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
4Fm90O 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
H9CS*|q6r 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
<ZB1Vi9}8 7k8 pZ 斜光栅介质的采样配置 "Y\_TtY Q~T$N 斜光栅介质采样
H#ncM~y* :kGU,>BN Qf@ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
__.+s32SS$ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
) Yd?m0m* 在右边,显示了介质的预览。
F8apH{&t 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
9:M`
j 5L!y-3 v;)..X30 "&3h2(#% 采样斜光栅#1 f%*/cpA) #f+$Ddg* z^<"x|: 8w.YYo8` 采样斜光栅#2 rEF0oJ. ghRVso( cb}[S:&| BT(CM,bp 采样斜光栅#3 /3{b%0Aa 53[~bwD cCxBzkH6 iTQD 采样斜光栅#4 D"D<+
;S# F|!){=
ej"+:."\e :eCU/BC4 文档信息 #Q
/Arq .p(T^ m2A*