[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 <2fy(9y  
'MW O3  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 pFV~1W:  
2R ^6L@fw  
R](ck
o=  
*K& $9fah  
该用例展示了… GHo mk##0E  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ;U$Rd,T4S  
倾斜光栅介质 {;m|\652B  
体光栅介质 2G<XA  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ?*[35XUd  
m=Gb<)Y  
d^v.tYM$N  
`~_H\_JpO  
光栅工具箱初始化 ^w&!}f+  
2kk; z0f  
;@:-T/=  
 初始化 o\PHs4Ws'7  
开始-> rg=Ym.  
光栅-> Ck>]+rl  
通用光栅光路图 ;.rY`<|  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ]>ndFE6kl  
光栅结构设置 :."6g)T  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 mB6%. "  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 /{P-WRz>  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 "c?31$6  
d{7)_Sbky  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 UI'fzlB  
vP+qwvpGr  
堆栈编辑器 $dWYu"2CD  
(i?9/8I  
"!fwIEG  
8H T3C\$s  
堆栈编辑器 A_e5Vb,u.  
aT+w6{%Z  
`I4E': ZG  
涂层倾斜光栅介质 bE@Eiac  
'NCx<0*  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 'cAS>s"$}V  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 +?[s"(  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 B2KBJ4rI[1  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ):nC%0V  
F\GNLi  
l8 $.k5X  
fC[~X[H  
涂层倾斜光栅介质 L@_o*"&j  
\m1^
sFMZ  
JiuA"ks)  
k*C[-5&#  
涂层倾斜光栅介质 4Ssy (gt  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 jGo\_O<of  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 .u=|h3&  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ;O5I
u  
Iz;^D!  
DRTT3;,N  
W^S]"N0u  
涂层倾斜光栅介质参数 @v!#_%J  
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xTt  
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i70\`6*;B  
涂层倾斜光栅介质参数 ]{#Xcqx  
ipt]qJFd  
l Ft&cy2  
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高级选项&信息 k,8^RI07@  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 =UWW(^M#[:  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 4d}
n0b\d  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 tB4yj_ZF  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 &OEBAtc/  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 Uyeo0B"  
G `B=:s]  
E9t8SclV  
-7o-d-d F  
高级选项&信息 a40>_;}:x  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ,_D@ggL-  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 \5=4!Ez  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 hx/A215L  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 St> E\tXp  
Ml{4)%~Y7f  
0dI7{o;<|  
#J8(*!I  
高级选项&信息 5~(nHCf>  
)nK+`{;@!  
D~`RLPMk  
w{;~  
高级选项&信息 : t75iB=  
TV0Y{x*~iH  
y&\t72C$Fi  
-Ekf T_  
体光栅介质 "T<7j.P?  
J~ +p7S  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
Ad>@8^  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 nLPd]%78>  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Y$j!-l5z  
nrXKS&6  
]=/?Ooh  
}jFRuT;35  
体光栅介质参数 "-AFWWKtx  
g:p`.KuB  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 [D?d~pB  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 g?Rq .py]!  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 jYBiC DD  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） [(.lfa P  
EQM[!g^a  
rg 0u#-  
YfseX;VX  
体光栅介质参数 1:./f|m  
|%3>i"Y@AK  
l <Z7bo  
!ZCxi  
高级选项&信息 |S]fs9  
iV\*7  
o$7UWKW8  
-$@'@U  
高级选项&信息 Fta=yH}  
+apn3\_  
@ Yo*h"s  
?nE9@G5Gc  
在探测器位置处的备注 RmOkb~  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 oJ#;XR  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 2uF'\y  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 8)83j6VF  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ST4[
d'|j  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 R+/kx#^  
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文件信息 u%OLXb  
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