切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 京东6.18购物红包，每天领三次！ 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 886阅读
    • 0回复

    [分享]结构设计和导出加工数据 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    技术专家
     
    发帖
    4713
    光币
    17941
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-12-25
    内容简介： f n )m$\2  
     n1 `D:XrE  
    1.在VirtualLab中如何进行结构设计； ,F(nkbt  
     /=A?O\B7  
    2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 s@K)RhTY  
     +M!f}=H  
    结构设计 q?g4**C  
    1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 Vo<V!G{  
     zE5%l`@|o  
    @dQIl#  
    2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 08{0i,Fs  
     V #W,}+_Sz  
         X[:Hp`_$  
    3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 %mPIr4$Pg  
     qc\]~]H]r  
    目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 okJ+Yl.[?7  
    "S.5_@?  
    光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 k'{'6JR  
     PXG)?`^NX  
    nIJ2*QJ  
    光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 4%1sOnl  
    \ni?_F(Y  
    ^{nf0)56c  
    4) 完成结构设计，在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 AJt *48H*G  
     "2q}G16K  
    /) Bk r/  
    |u8IQR'B  
    导出加工数据 4Tgy2[D?q  
      -iWt~  
    1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) z[X>>P3<n  
     dO}6zQ\  
    Y~#m-y  
    2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 _0ki19rs  
     hRTw8-wy:  
    hu0z):>y  
    3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 n@  lf+  
           t?f2*N :  
    3:Q5dr+1_  
    Ya{$:90(4  
    Bee`Pp2  
    4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签，将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8，通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 esU9  
    @dei} !e  
    =V~p QbZ  
    cO%-Av~P  
    5) 进入光学界面数据导出窗口 {Qbg'|HO=l  
     V:HxRMF2X  
    在一般(General)标签进行如下图所示的设置 =i[_C>U  
    _|reo6  
    在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 wm~35cF(  
    (~ro_WC/I  
    在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 a(RTb<  
    ? cU9~=  
     @v &hr  
    导出加工数据列表 &{E1w<uv  
     ln.'}P  
    F!.Z@y P  
    "=<T8M  
    导入加工数据 `L# pN5  
     pFb }5Q  
    1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI MJ"ug8 N  
     K",YAfJa  
    4.Luy  
    2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) B8A-|S!,U  
     &$$KC?!w  
    ZLm?8g6-  
    3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) %;S T7  
    [Z~h!}  
    4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 !YX$4_I  
     mY6d+  
    ,5}%_  
    ZNWo:N8;  
    ZYRZ$87jZ  
    ZcJa:  
    5) 打开文件夹中的.xml文件，导入加工文件 Lv;% z  
    t<=Ru*p  
    *Rm"3S  
    6) 导入完成，观察3D视图 _v=S4A#tF  
     n}0n!Pr^  
    )B"k;dLm  
    K9-;-{qb  
    -_@zyF<G  
    QQ：2987619807
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表