摘要 % u VTf mVS^HQ: VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
"{+2Q 7MZH'nO R<I#.
KD `e;r$Vpd_ 介质目录中的斜光栅介质 kWa5=BW2f f
tl$P[T pdFO!A_t 'aV'Am+: 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
H}_R `S 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
K:XP;#OsP nVoWER: 斜光栅介质的编辑对话框 sMVk]Mb 9iJ$M! UpD4'!<buV `#W+pO 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
F#L1~\7 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
)l!
/7WKY 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
7@g0>1Fz 斜光栅介质的编辑对话框 rqp]{?33
D/"velV
J,?F+Qji&= WcT= 5G 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
x'\C'zeF 以下参数可用:
S:i#|T." - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
a}FY^4hl+ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
;ow)N <Z - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
oj{CNa - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
%,~\,+NP e-v| 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
5y
g`TW ~@6l7H6{ 斜光栅介质的编辑对话框 ;a>u7rw A/:_uqm4 'nM4t %x{kd8>u! 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
i\^4EQ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
:2M&C+f[ K^@9\cl^ 斜光栅介质的编辑对话框 })70S8k YU8]W% g"|>^90 ?_bFe![q Z- a 首先,必须选择涂层材料。
zdU46|!u 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
Z|x|8 !D 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
^vT!24sK RjvW*'2G 斜光栅的编辑对话框 ~ffT}q7^
iKd+AzT
R{bG`C8.d -3)jUzD ! #!
MTk 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
"OwVCym? 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
MIr+4L U'9z.2"}9 堆栈使用的评论 i@5Fne
]OdZlZBsJ
&qdhxc4 m }HaJ %>=6v}f,+ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
$57b.+2n 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
hchG\i 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
t>?tWSNf 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
MaHP):~ _ pz} 斜光栅介质的采样配置 n6WKk+ 6uo;4}0 斜光栅介质采样
=HsE:@ =(7nl#o b=/'cQ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
LYRpd 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
+ppA..1 在右边,显示了介质的预览。
xIa7F$R 0 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
b \`S[ Pb8@owG8 oS..y($TI =s4(Y 采样斜光栅#1 JJtx `@Bc n8F5z|/ %2zmc%]r S$Zi{bU`G 采样斜光栅#2 xH*X5? 0Z6geBMc thJ~*
0^ ZzupK^5Z 采样斜光栅#3 2,q*[Kh1 oXnaL)Rk 18Y#=uH} ^r&)@R$V 采样斜光栅#4 :+PE1=v + tMf&BZ Q&I`uS=F A'KH_]) 文档信息 ,?|$D Y+= yzhNl'Rz