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    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 {-09,Q4[&  
    ^[uA^  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 u4, p.mZtb  
    X@2[!%nm  
    n0:'h}^  
    YJ3aJ^m#E  
    建模任务 @GK0j"_  
    pMe'fC~*  
    "FwbhD0Gb  
    概观 R6r'[- B2  
    Ux2(Oph  
    Q &<:W4N*  
    光线追迹仿真 3Gubq4r  
    T6*naH  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ,|<2wn#q  
    K?8{ y  
    •点击Go！ ryg1o=1v/  
    •获得3D光线追迹结果。 yF8 av=<{  
    QX1QYwcmG  
     Zui2O-L?V  
    & gnE"  
    光线追迹仿真 R'`q0MoN1  
    /GD4GWv :  
    u^8:/~8K  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 0&} "!)  
    •单击Go！ 01uMbtM  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     meA=lg?  
    i<@6f'Kir  
    $vlq]6V8  
    R@ N I  
    场追迹仿真 Ri=>evx  
    /7/d u[P6  
    d!mtSOh  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 9~2}hXm;  
    •单击Go！     "l&=a1l  
    Ue^2H[zs-  
    $6e&sDJ  
    $hZb<Xz  
    场追迹结果（摄像机探测器） 7 p}J]!Z  
     EnnT)qos  
    qpjtF'  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 A[`c2v-hF  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 e33j&:O  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 VJmX@zX9  
    mrX 2w  
    %{ WZ  
     /n;Ll](ri  
    场追迹结果（电磁场探测器） KJ M :-z@  
    F67%xz0  
    #}*w &y  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     g`I`q3EF)  
    |:BKexjHL  
    lO3W:,3_a  
    文件信息 bL soKe  
    <+I^K 7   
     d$Y3 a^O|  
    o8Vtxnkg  
     `B'*ln'r5  
    QQ：2987619807 |U)m'W-(q  
     
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