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摘要 Wu)An ]?_V+F 在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 fr&K^je\ S~B{G T\M REPI>-| 场景 K<v:RbU|[1 VqS1n a[J_H$6H! 4{%-r[C9k 在VirtualLab Fusion中构建系统 o`nJJ:Cxq- WyUa3$[gO 系统构建块 '\P+Bu]6& e09QaY c
LfPSA EE*FvI` 组件求解器 nX<yB9bXDg .]/k#Hv uCj)7>}v{M 3m"9q v>5TTL~? |%j7Es 系统构建块 US&:UzI. nr%P11U\c I9YMxf>nI T5aeO^x 总结 \n-.gG &zHY0fxX D"P<;@ef Sv[+~co<l 几何光学仿真 Q'rX ]kk_ 通过光线追迹 "gt*k# on f7V 结果:光线追迹 &izk$~ Wbi12{C $~T|v7Y% U-#vssJhk 快速物理光学仿真 E\VKlu4 通过场追迹 {QIdeB[ RYM[{]4b5F 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /%P,y+<}iG 4x" je 2XV3f$, H vH{JLN2 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 03 ;L W<H<~wf# BSg3 @&2#kO~= 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 dhi9=Co; i",oPz7 CPu~^ik z?(QM: 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 f6%7:B d _8OSDW*D5t h\*I*I8C &MGM9
zm-] 总结 M;E$ ]Z9 f/g-b]0 t<znz6 01o,9_|FL 文件信息 4"Pf0PD: G4)X~.Fy .q9i10C r~T3Ieb GD
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