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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 Wu)An  
    ]?_V+F  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 fr&K^je\  
    S~B{G T\M  
    REPI >-|  
    场景 K<v:RbU|[1  
    VqS1n  
    a[J_H$6H!  
    4{%-r[C9k  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 o`nJJ:Cxq-  
    WyUa3$[gO  
    系统构建块
    '\P+Bu]6&  
    e09QaY  
    c LfPSA  
    EE*FvI`  
    组件求解器 nX<yB9bXDg  
    .]/k#Hv  
    uCj)7>}v{M  
    3m"9q  
    v>5TTL~?  
    |%j7Es  
    系统构建块 US&:UzI.  
    nr%P11U\c  
    I9YMxf>nI  
    T5aeO^x  
    总结 \n-.gG  
    &zHY0fxX  
    D"P<;@ef  
    Sv[+~co<l  
    几何光学仿真 Q'rX]kk_  
    通过光线追迹 "gt*k#  
    on f7V  
    结果:光线追迹 &izk$~  
    Wbi12{C  
    $~T|v7Y%  
    U-#vssJhk  
    快速物理光学仿真 E\VKlu4  
    通过场追迹 {QIdeB[  
    RYM[{]4b5F  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /%P,y+<}iG  
    4x" je  
    2XV3f$,H  
    vH{JLN2  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 03 ;L  
    W<H<~wf#  
    BSg 3  
    @&2# kO~=  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 dhi9=Co;  
    i",oPz7  
    CPu~^ik  
    z?(QM:  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 f6%7:B d  
    _8OSDW*D5t  
    h\*I*I8C  
    &MGM9 zm-]  
    总结 M;E$ ]Z9  
    f/g-b]0  
    t<znz6  
    01o,9_|FL  
    文件信息 4"Pf0PD:  
    G4)X~.Fy  
    .q9i10C  
    r~T3Ieb  
    GD }i=TK  
    QQ:2987619807 usI$  
     
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