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    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 京东6.18购物红包，每天领三次！ 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 n@) K #  
    nR*ryv  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 \.-bZ$  
    PpzP7  
    E 7{U |\  
    场景 -qGa]a  
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    *}*FX+px)  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 .6Pw|xu`Pw  
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    系统构建块     a^I\ /&aw'  
    #pnI\  
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    组件求解器 @u6B;)'l  
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    系统构建块 yd d7I&$  
    JkbQyn  
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    nWw":K<@Q_  
    总结 + R~'7*EI  
    ZbdZ rE$  
    m+]K;}.}R  
    pOIJH =#  
    几何光学仿真 3EPv"f^V  
    通过光线追迹 #V~me  
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    结果：光线追迹 &i6),{QN  
    [M=7M}f;  
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    n-tgX?1'  
    快速物理光学仿真 VA#"r!1  
    通过场追迹 *Q "wwpl?  
     6a~|K-a6  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iv J@=pd)B  
    *RJG!t*t  
     n{ar gI8wF  
    @niHl  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 t.i 8 2Q  
    &w_j/nW^'  
     Ng2twfSl$  
    pmyXLT  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 G[uK-U  
    h-`?{k&e  
    #lL^?|M  
    @@Kp67Iv  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 3YOq2pW72G  
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     2} /aFR  
    V ]lLw)  
    总结 NJWA3zz   
    - M4J JV(  
    {EB;h\C  
    $ r@zs'N  
    文件信息 bN1|q| 9  
    *&^Pj%DX  
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    BYL)nCc  
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    QQ：2987619807 FrGgga$  
     
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