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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 *JOK8[Qn  
    #A>*pF  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 gc4o |x  
    rVabkwYD  
    #c|l|Xvq2  
    概述 }cz58%  
    br\3}  
    m0G"Aj  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 IQBL;=.J.  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 LsR<r1KDJ  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 v8-szW).  
    hTBJ\1 -  
    ;8H&FsR  
    u/tJ])~@  
    衍射级次的效率和偏振
    yK{P%oh)  
    :$Cm]RZ  
    i%yKyfD  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Nr@,In|JS  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 (0`rfYv5.R  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 1XS~b-St  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ^ iu)vED  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 |mhKD#:  
    {:cGt2*~^  
    ceg\lE:8  
    光栅结构参数 X}B] 5  
    eHx {[J?  
    )+FnwW  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 py$Gy-I~[  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 DvWBvs,  
    •因此,选择以下光栅参数: @!$xSH  
    - 光栅周期:250 nm o=VZ7]  
    - 填充系数:0.5 wgSFL6Ei  
    - 光栅高度:200 nm k1[`2k:Hk  
    - 材料n1:熔融石英 #W:.Fsq  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ~ &/Nl_#  
    nR%w5oe  
    2 zo>`;l  
    \1R*M  
    偏振状态分析 :MDFTw~|  
    6@Q; LV+  
    %4VM"C4[  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ruhC:rg:/  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 :Nz TEK  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Lh+7z>1  
    HmXxM:[4;  
    OfLj 4H 6Q  
    1xxTI{'g[  
    产生的极化状态 F, =WfM\  
    Z){fie4WM  
    e23&d  
    "+Ks#  
    KjA7x  
    其他例子 $1X !Ecq_  
    ~Q- /O~  
    KYhL}C+  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 '<"%>-^Gn  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 >U:-U"rA?  
    y=GDuU%  
    mv<cyWp  
    e{: -N  
    光栅结构参数 USE!  
    (>Sy,  
    T+V:vuK  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 45+kwo0  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 8yr-X!eF  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 n`Ypv{+ {%  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 $9@Z\0   
    s_u! RrC  
    _=w=!U&W  
    光栅#1 'mU\X!- 4<  
    RZvRV?<bR  
    ylmVmHmc  
    S{cK~sZj  
    +SFo2Wdr43  
    •仅考虑此光栅。 2J(,Xf  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 .>5E 4^$%  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ?.I1"C,#VJ  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ,=6;dT  
    CwF=@:*d  
    ]xJ2;{JWsO  
    假设光栅参数: \n0Gr\:  
    •光栅周期:250 nm mqQ//$Y   
    •光栅高度:660 nm &>@EfW](  
    •填充系数:0.75(底部) q_6 <}2m,U  
    •侧壁角度:±6° !O,`Z`T?  
    •n1:1.46 9@(V!G  
    •n2:2.08 c5Hm94, p  
    cT JG1'm  
    光栅#1结果 ;>p{|^X0D  
    ds+0y;vc  
    }8'bXG+  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 6r5<uZ9w_X  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 [MM`#!K%  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    G{s q|1  
    7baQ4QY?n  
    grCz@i  
    x8rp Z  
    光栅#2 0o!Egq_  
    ma2-66M~j  
    /vPcg  
    *Q3q(rdrp  
    al Q:'K  
    •同样,只考虑此光栅。 PwxRu  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 vB/G#\Zqz  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 >x1?t  
    假设光栅参数: wtro'r3  
    •光栅周期:250 nm XCZNvLG  
    •光栅高度:490 nm SxRa?5  
    •填充因子:0.5 )mXu{uowr  
    •n1:1.46 ]OA8H[U-eA  
    •n2:2.08
    7N fA)$  
    K<w$  
    光栅#2结果 .\ces2,  
    t'Pn*  
    lZ}H?n%  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 w`K=J!5y2g  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 FAd4p9[Y  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 &Ukh  
    G8p6p6*  
    ^b`aO$  
    文件信息 U> 1voc  
    \ssqIRk  
    %:] ive]e  
    }EWPLJA  
    ;bt%TxuKb  
    QQ:2987619807 v|u[BmA)*k  
     
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