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摘要 hJZV}a| ie2WL\tR4 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 n
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)pq;*~ IBI 建模任务 T[j#M+p <})2#sZO!  " x 3lQ 概述 ><gG8MH0' k + H 3Bq •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 =y0C1LD+ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~v6OsH%vx R}q>O 5O
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光线追迹仿真 x
"^Xj]- 0V'nK V"| •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 4c l\^ yD •单击go！ ug+io mZ •获得了3D光线追迹结果。 K 95p>E`9e (Q.waI
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[Mz cm&I* 0\ 光线追迹仿真 wPwXM ! kw"SwdP5 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 w*oQ["SL •单击go！ UrYZ` J
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 RPE5K:P r=X}%~_8X
 HN&Z2v 2JJ"O|Ibz 场追迹仿真 mR}6r2O2\Q l i0i" •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 &?*V0luP) •单击go！ c@ /(B:@ 3b+d"`Y^S  +eFFSt
ev#;t@^ 场追迹仿真（相机探测器） ,!7 H]4Qx 2\7`/,U6 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 .zn ;:M#T •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 #m{UrTC rld67'KcE
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?sMP~RHQ 场追迹仿真（电磁场探测器） Bh=u|8yxc •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 fp[|M , ]+z)
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++V=s\d7 场追迹仿真（电磁场探测器） U2ZD]q
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Kwg4sr5"D
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination m<0&~rg F v Jd8kV
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