[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 #eYYu2ND  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 HxK'u4I  
i3XtrP""  
Dh^l:q+c  
#c:@oe4v  
该用例展示了… JA{kifu0+  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： -)%\$z  
倾斜光栅介质 Sck!w 3  
体光栅介质 Vw;iE=L  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 1[
OY-G  
C+\z$/q  
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A23K!a2u&  
光栅工具箱初始化 +_ehzo97  
Yjo$vQi  
UK OhsE  
 初始化 T}\
>8EEG  
开始-> =0&XdxX  
光栅-> J4]"@0?6  
通用光栅光路图 T.De1Q|  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 hcU^!mp  
光栅结构设置 -0a3eg)Z*  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 ;PVE= z+y  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 >#dLT~[\a  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 )[Rwc#PA;  
R[F`b  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 R;AcAJ;  
C=;}
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堆栈编辑器 %^W(sB$b  
[W$x5|Z}Q  
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堆栈编辑器 E>@]"O)=M,  
[*K9V/  
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涂层倾斜光栅介质 NjS<DzKhK  
%A 5s?J?  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 rG-x 3>b  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 e]1)_;b*  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 !]"M]tyv\  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） DFfh!KKR$  
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涂层倾斜光栅介质 v7j/_;JE;  
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vzAY+EEx
 
涂层倾斜光栅介质 %N\45nYU:  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 K\}qYdPF  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 0I)eYksh  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 REc90v2"  
fZs}u<3Q)  
P2>_qyX  
MR,>]| ^  
涂层倾斜光栅介质参数 s Wj:m)  
1h]nE/T.O  
9u^za!pE  
3kr.'O  
涂层倾斜光栅介质参数 1jK2*y  
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,`t9f^:  
j`u2\ ;  
W)2
k>cS  
高级选项&信息 z/o&r`no  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 Yg!fEopLb  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Ux);~P`/o  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 7CU<R9Kl  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ;Uypv|xX  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 |Ntretz`\  
o -x=/b  
h^zcM_  
!9S!zRy@  
高级选项&信息 {- &wV  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 LK|rLoia:  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 lR ZuXo9<  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 skLr6Cs|  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 z4[8*}  
Re;[S[D7  
RLVz"=  
{f6~Vwf  
高级选项&信息 -!j5j:RR  
5'rP-z~ u  
(Kkqyrb  
|'k7 ;UW  
高级选项&信息 mnYzn[d3U  
!J}Q%i  
78'3&,+si  
I~M@v59C  
体光栅介质 s9b+uUt%  
`g'9)Xf4KT  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 D<4cpH  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 p ^I#9(PT  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Q=498Y~x  
;:~-=\  
Eye.#~  
' '|R$9\@  
体光栅介质参数 %\!3tN  
=eeZtj.  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 l !R >I7  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 u$V@akk  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 enQev?8%  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 0e~4(2xK  
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8Dc'"3+6  
体光栅介质参数 jW.IkG[|  
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高级选项&信息 :&=`xAX-  
{r[g.@  
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高级选项&信息 D]5cijO6  
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在探测器位置处的备注 I(
0 *cWO  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 OR-fC  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ~`CWpc:  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 sy+tLDMd  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ^U{SUWl  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 af;~<oa  
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文件信息 L=-v>YL+  
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QQ：2987619807 ~BD 80s:f