[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 ) { "}b
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 &s.-p_4w^D  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 0F 4%Xz  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 @q" #.?>s  
`@ Ont+  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 <M
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a=^>A1=  
•点击Go！ g31\7\)Ir  
•获得3D光线追迹结果。 zv\T;_  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 ?0+J"FH# W  
6k\8ulHw  
}cy<$=c#E_  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 M059"X="  
•单击Go！ hKK"D:?PRs  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 2I~a{:O  
4L6'4t"s  

图片:1-1Q210142613B5.png

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5fhe{d"si  
场追迹仿真 r?n3v[B  
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?m.Ry  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ,#=;V"~9  
•单击Go！ `>}e 5  
|f&=9%  

图片:1-1Q210142A2533.png

e#uF?v]O
 
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场追迹结果（摄像机探测器） ]u O|YLWp  
F1zsGlObu}  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #]o#~:S=  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 NA8$G|.?  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 *[['X%f  
)eSD5hOI)  

图片:1-1Q210142Q6438.png

[mI;>q  
L[:b\O/p,  
场追迹结果（电磁场探测器） _NJq%-,'  
SA16Ng  
y{\K: 
 
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 IOOAaa @(  
2l!* o7  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 H#j Z'I  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 h wfKgsm  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer >)PcK  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 4ky@rcD1  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么