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    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 B=n[)"5fBO  
    j1*f]va  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 $*f?&U]k  
    @gY\;[#.  
    RWKH%C[Yd  
    PFrfd_s{>\  
    建模任务 NHm]`R,  
    };,/0Fu  
    !GwL,)0@^  
    概观 ]< XR]FHx)  
    Xg7|JS!  
    0uvzxmN  
    光线追迹仿真 ZmEEj-*7s  
    &GhPvrxI?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /<Ld'J  
    W),l  
    •点击Go！ X~oK[Nf'9  
    •获得3D光线追迹结果。 H8{ol6wc)6  
    {X~ gwoz  
     W*N$'%  
    7Nzbz3  
    光线追迹仿真 -WJ?:?'  
    P7.'kX9  
    ABh&X+YD  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ][&9]omB  
    •单击Go！ (R!hjw~  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     IkPN?N  
    UUc8*yU)  
    "IQ/LbOqm_  
    ;30nd=  
    场追迹仿真 uXjP`/R|  
    "Gb1K9A im  
    2`G OJ,$  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 !C4!LZ0A  
    •单击Go！     TZR)C P5  
    [ic870_  
    QXgE dsw  
    kM8{C w  
    场追迹结果（摄像机探测器） iBTYY{-wF  
     A/7{oB:a  
    G fEX>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 qOih`dla  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 7&qy5 y-Ap  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 1KM`i  
    W2FD+ wt  
    &-d&t` `  
     4)|8Eu[p7  
    场追迹结果（电磁场探测器） -i yyn ^|  
    !8NC# s  
    }|u4 W?H  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     L|P5=/d  
    i.D3'l  
    ,I1 RV  
    文件信息 Qx;\USv  
    E :9"cxx  
     I M-L'9  
    #txE=e"&o  
     +LM#n#T  
    QQ：2987619807 TJ q~)Bm  
     
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