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摘要 gE r @L
h=:Ls]ZU 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 _{$ eOwB
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KV&4Ep# 建模任务 `^_c &y K n{'LF #4l  ~) ut"4
概述 $W} YXLFj? JTg:3<L •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 E~]37!,\\9 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 K"fr4xHq l-/fFy )T
 mf4C68DI@u p;nRxi7' 光线追迹仿真 B Oc2<M/\ Rda~Dr z •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ^:hI bF4G •单击go！ !i4/#H •获得了3D光线追迹结果。 /O `<?aP% .|?UqZ(,
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光线追迹仿真 1s\ =[_=y=G •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 W=-:<3XL •单击go！ #{f%b,.yxt •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 pc+'/~ 8cKP_ Ec
 OV>JmYe1{/ X}f u $2 场追迹仿真 *'l|ws d
U}kimz •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Pl/}`H: R& •单击go！ b=$(`y ja2BK\"1:  Ea<kc[Q
(JX 9c 场追迹仿真（相机探测器） ^}Wk UI]UxEJ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Z%m\/wr •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 59k[A~) ~ O yG#
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\C-i 场追迹仿真（电磁场探测器） 8~!9bg6C •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 JmBe1"hs K| w\KX0  G2 {R5F !
`fM]3]x> 场追迹仿真（电磁场探测器） Bw Cwy
,^n5UA`PK •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 *S= c0 {kOTQG?y
 E{8-VmY ]1)#Y 文件信息 uXuA4o$t- Rm&4Pku
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer w f" "=;
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