[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 F&czD;F  
W^L^7  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 &/WM:]^?0)  
MZ,1mR  
>z\IO  
ewk7:zS/?  
该用例展示了… I!Z`'1"  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： !2Nk  
倾斜光栅介质 B-C$>H^  
体光栅介质 05FGfnq.8  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 kPs?  
)C8^'*!  
c}qpmWF  
/\/^= j  
光栅工具箱初始化  *XhlIQ  
<@.e.H  
n]IF`kYQV  
 初始化 Z?'CS|ud  
开始-> -`k>(\Q<d  
光栅-> vzg^tJ  
通用光栅光路图 2L4[~>  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 _ l`F}v  
光栅结构设置 larv6ncV  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 N3L$"g5^  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 'lZlfS:Z8  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 a|u#w~  
(WT\
HR  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 kuH%aM<R  
gLv+L]BnhH  
堆栈编辑器 ]\xt[/?{  
dA hcA.  
zVS{X=u  
FLMiW]?x  
堆栈编辑器 tw$EwNI[  
9xK>fM&u  
5?>4I"ne  
涂层倾斜光栅介质 h.vy SwF"j  
_VT{2`|})  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ]2@(^x'=  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Mg
w#4LU  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 l7VO8p]y[R  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 0vqH-)}  
u;q Q/Ftb  
MeBTc&S<  
$\P/ %eP  
涂层倾斜光栅介质 e#;43=/Ia  
]eGa_Ld  
3%)cUkD  
nnPT08$  
涂层倾斜光栅介质 K:U=Y$x  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 _;PQt" ]  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 $l7}e=1
 
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 u* pQVU  
i`sZP#h  
o
mpr})c  
~%*l>GkP*  
涂层倾斜光栅介质参数 N9/k`ZGC  
@:zC!dR)G  
h~
#F2#.  
bW W!,-|R  
涂层倾斜光栅介质参数
j>JBZ#g  
B1}i0pV,,  
7-B|B{]  
I'P|:XKI  
高级选项&信息 En&7e  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 .vKgiIC:  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 /9ORVV  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 eW8cI)wU  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 .$-;`&0cZ  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 9mDdX
 
t_Eivm-,B  
a^&"gGg  
?/&X_O  
高级选项&信息 Nt8"6k_  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 *
I?-A(e  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ??nT[bhQ  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ia\Gmh  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ODu/B'*  
0t!ZMH  
r
mw}Ui"  
h's[) t  
高级选项&信息 ]xvhUv!G  
jW#dUKS(  
? /!Fv/  
!=21K0~t#  
高级选项&信息 +iN!$zF5]  
?3N/
#  
Z|@-=S(.  
waC i9  
体光栅介质 2f:hz  
puMVvo  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 TQeIAy  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 <tTNtBb  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Aa1#Ew<r  
_\4r~=`HQ  
T|\sN*}\8J  
1N _"Mm{  
体光栅介质参数 d >L8SL  
CxaI@+  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 7V=deYt_p  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Nkb%4ofKqu  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 P
q~#SxA~  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 1<x5{/CZ  
`ci  P  
dh]Hf,OLF  
EM<W+YU  
体光栅介质参数 0e>?!Z E  
j*8Z
e!^  
d.ywH;  
OtL~NTY  
高级选项&信息 <2j$P Y9  
nS$4[!0  
:6C R~p  
t`&mszd~T  
高级选项&信息 ce4rhtkV  
"c~``i\G  
Q>yj<DR  
49/2E@G4.  
在探测器位置处的备注 e+Mm!\;`  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 )e[q%%ks  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 QN;NuDHN  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 x?6^EB|@  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） fm^tU0D
Y  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 S%]4['Y  
2hntQ1[  
'lC=k7@x  
4cm~oZ  
文件信息 pkIQ,W{Ke  
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QQ：2987619807 #I ,c'Vj