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摘要 I9B B<~4o owQLAV VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 -j<m0XUQ tWD*uAb ,X+071.( +STT(b Mn 介质目录中的斜光栅介质 jt;68SA
P nbhx2@Teqe 90M:0SH 2qw~hWX 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 -H{c@hl 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 Q-BciBh$ (iH5F9WO 斜光栅介质的编辑对话框 }Li24JK QR<IHE{~8 dEns|r e$ E=n 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 h?fv:^vSi 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 fytgS(?I' 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 Ch^Al2)= 斜光栅介质的编辑对话框 c7'I'~ zLC\Rc4 Z6
(;~"Em 5>"-lB & 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 B4_0+K H 以下参数可用: !dStl:B - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) "P'W@ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) E.4`aJ@>d - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) -i7W|X" - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) _D[vMr[ YM/^-[k3 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 dy#dug6j )#M*@e$k 斜光栅介质的编辑对话框 r68'DJ&m3 pX*Oc6.0mu \P+lb-~\" \HV%579 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 XM>ByfD{ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 V<?t(_Y gNo.&G [ 斜光栅介质的编辑对话框 @ $4(!80- Oy&Myjny< jx+%X\zokA V2V^*9(wu@ khyn4
首先,必须选择涂层材料。 MX xRM~ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 W,}HQ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 1#&*xF" ZH~ T'Bg 斜光栅的编辑对话框 ~NMal]Fwx AN\: x3MV"hm2 7eqax33f !dv 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 3;u* _ ]N_ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 > 't=r x%jJvwb^| 堆栈使用的评论 ^EPM~cEY\ {*r*+}@ f.!)O@HzH $o?Wum k`F$aQV9` 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Ysz{~E' 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 np}F [v 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 /8VM.fr$ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Ix93/FAn ;H9d.D8 斜光栅介质的采样配置 ++W_4 B! 0C#1/o)o 斜光栅介质采样 ,a9<\bd) )q&=x2` k6_RJ8I 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 qPK3"fzH 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 g4cmYg3 在右边,显示了介质的预览。 ?g+0S@{i $ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 qba<$ sPYG?P(l rj& awQf$ 采样斜光栅#1 DBYD>UA -yHVydu= eN fo8xUG 8`XT`H 采样斜光栅#2 $m] ~d6 |v#N =PWh,lWS P/5bNK! 采样斜光栅#3 dtw1Am#Ci .<}(J#vC 1H`T=:P? 9oKRnc 采样斜光栅#4 Y4e64`V) t$^1A1Ef gVjI1{WTK vU0j!XqE 文档信息 9kss)xy h$.y)v -fIX6 p!BZTwP Y+75}]B QQ:2987619807 xzTTK+D@
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