摘要
ap\2={u^| 9L?EhDcDV 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
&P!^k0NJR S'Q$N-Dy uGJeQ ~m
uVQ 建模任务
h|%d=`P, e\.|d<N? h=4m2m 概述
"S[VtuxPCU xzMa[D4( •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
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•接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
SNff 9A3Q&@, `"(7)T{ IQScsqM 光线追迹仿真
,X\z#B Z/;rM8[{& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
,)GCg@7B •单击go!
QE)g==d •获得了3D光线追迹结果。
IO>Cy o !M^pL| 2HQ'iEu$ c!Pi) 光线追迹仿真
MQ\:/]a _vU,avw •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
}(M<sEK~ •单击go!
J4lE7aFDA~ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
&% M^:WT L<8y5B~W #0xvxg%{ u0XGtu$4 场追迹仿真
Z"!C R>gj"nB •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
"_#%W
oo •单击go!
u3k+Xg: sL&u%7>Re y[r T5ed 1Tiq2+hmf 场追迹仿真(相机探测器)
&LL81u6=S fG,qax`:c •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
e2B~j3-?z •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
}#E4t3 0|GxOzNd h gVwoZ{`] 4&|9304<H 场追迹仿真(电磁场探测器)
qHHWe<}OT •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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@ KqtI^qC8 场追迹仿真(电磁场探测器)
}W|CIgF* <#R7sco' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer q&W#nWBV -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination a\MU5%}\ -u9{R \S (来源:讯技光电)