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[求助]AR膜反射率不良时如何调整 [复制链接]

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离线leehow534

实习生

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只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2013-12-13

目前已知的是：
1.根据TFC演示，膜厚调整
2.如果蒸发速率过小，就把预熔功率加大些
没有其他方法了吗，各位亲们？

同样的条件连续镀为什么每次反射率图形都不一样咧？

[ 此帖被leehow534在2013-12-15 22:46重新编辑 ]

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离线fagbit

助理工程师

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只看该作者 1楼发表于: 2013-12-14

问题不是很清楚，AR膜怎么扯到分光？

离线leehow534

实习生

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只看该作者 2楼发表于: 2013-12-14

就是反射率图形老是变来变去

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离线leehow534

实习生

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只看该作者 3楼发表于: 2013-12-14

就是调整反射率图形规格内

内容来自Android手机客户端

离线jack0827

实习生

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只看该作者 4楼发表于: 2014-01-08

确认每次预融的一致性，还有相关的真空度。

离线李仁锋

实习生

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只看该作者 5楼发表于: 2014-01-09

你是不是用的310，可能里面设置有问题QQ81398665

离线245136615

实习生

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只看该作者 6楼发表于: 2014-02-17

晶控？电子枪的功率，光斑的大小是不是变化了，没有压控的话，注意真空度是不是有变化

离线qxb2008

技术员

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只看该作者 7楼发表于: 2014-03-19

这就说明楼主你的镀膜条件重复性很差啊，如果机台系数没弄错的话。问题可以分两种情况：一种是镀膜机的重复性差，一种是膜系敏感层太多。镀膜机的重复性差要考虑的因素就多了：真空度/温度/充氧/蒸镀速率/伞差/蒸发角度等；膜系的敏感层可以通过二次优化进行调整。总之一个条件一个条件的去确认，总会找到问题的。
希望能帮到你。

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光迹

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2020-07-25