光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
PM o>J|^ *Fp )/Ih 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
%w' @:~0 J=zh+oLCV 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
;h0?o*i_ J|,| *t 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
=Lp0i9c Kax85)9u Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
|CStw"Fog /$+ifiFT 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
oAv L?2 
LT:KZ|U9 &ATjDbW*( 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
wz P>Cq 
]UFf- |w:7).P 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
`Z/"Dd;F^3 
YujhpJ< 9K
FWa0G 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
`6Y'H2WJ? 
m:X;dcq'3 6M 259*ME 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
2l8jw:=H 
#{i\t E ?ry`+n x 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
{@B<$g 
Q]IpHNt[> U,aV {qz 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
NWb,$/7T 
/d8PDc " A5Y z| 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
8Qek
q3 1swP LI"ghz=F 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
v:s~Y 
"aA z G+NM ix*n<lCoC 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
L[Tr"BW 
g^4'42UX
Hco [p + 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
ks:Z=%o 
om;jXf}A hPD2/M
保存：Data_Save Design。
