光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
hQlyqTP|2 ~sPXkLqK
参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
o)]O </1]eDnU 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
scYqU7$%T #Sx 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
O:GAS [O` 9qgs*]J p>#q* eU5 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
%u_dxpx xSNGf@1b K=nDC. 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
]61HQ BW}M/ >(wQx05^D 单击Next_Apply即可。
C&R U 8 H3u" VX>j2Z' 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
.Eb]}8/}E Cb`, N 9 wbQ$>G9 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
MGxkqy? Xo]2iQy }f14# y; 单击OK.再Load新建的目标,
]!@=2kG4 N)AlQ'Lwx K~I?i/P=z 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
}qhYHC 1 ]
cLbJ ]8DTk! 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
c$^v~lQS ;1{=t!z=