光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
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2kO 8]Xwj].^C 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
fMn7E8. m?G}%u 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
dQR2!yHEq ee]PFW28 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
(yduU xQa[bvW `J^J_s 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
'._8 /H=fK #~54t0|Cd> 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
q79)nhC F \eE0Rnaf- 1%|+yu1 单击Next_Apply即可。
MPMJkL$F^ UK2Y<\vD DNdwMSwp 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
P$Y<
g/s4 4w^B&e% @6>R/] 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
>~I~!i3 MI|DOp ^u#!Yo.!( 单击OK.再Load新建的目标,
"xlf6pm% |QJ!5nb 8w~I(2S:# 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
!}^c.<38Q 6#On .Q vbmSbZ"y 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
X&h4A4#P AZxx%6