光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
?2Py_gkf P
m e^l%M 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
Y glmX"fLf 2!= f hN 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
E#N|w q l]l'4@1 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
QE`bSI .jWC$SVR Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
n]o<S+z L>4 "( 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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8NAON5.! C1 GKLl~ 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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t=W}SH 57']#j#"hj 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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Q:d]imw!O Od,qbU 4O 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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@YTaS z$L ,S ]7 'UP 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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_v:?A9 Tqn@P 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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q ,]L$ <FkFs{(t 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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p}pj fG HJ[c M6$2 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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" C Qa.% L2i_X@/ 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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}-2 2XYh h_,i&d@( 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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bI9~jWgGp LG|fq/; 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
Gk&)08 
b& N'C9/8 9Uekvs=r=M 保存：Data_Save Design。
