如何分析部分
干涉成像系统 (光刻机系统)
o zv><e# "g0Ln5& 在光刻应用中,所使用的
光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
jn]{|QZ 在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。
K2!KMhvQ >RRb8=[J h!$W^Tm2g 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作:
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ =3sBWDB[ C8i}~x< 这里是案例的ZEMAX
文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解!
/QG8\wXE2 ,!c. 如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。
O||M
| op[5]tjL 回帖是对我分享的一个鼓励, 谢谢回帖!