抛光常见疵病产生原因及克服方法 ]{(l;k9=e
印迹 sS-W ~u|C
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ax<g0=^R
2)玻璃化学稳定性不好 {a]pF .^kf
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 $4DFgvy$
克 服 方 法 yQ8M >H#J
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 "EN98^
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2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 3b+7^0frY#
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 4g>1G qv6
光圈变形 &}>|5>cJu
1)粘结胶粘结力不适 tB
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2)光圈未稳定既下盘 Yr5iZ ~V$
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) SrdE>fNbs
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 &aY/eD
克 服 方 法 T}V7SD.
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 D} mo\
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 RlU;v2Kch
3)刚盘定期进行检测和修正 ?6 8$3;
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 c =jcvDQ6W
麻点： v$[ @]`
产 生 原 因 `oB' (
1) 精细磨、抛光时间不够 V/`# B$6
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 |)28=Z|Z
3)有粗划痕抛断后的残迹 A,3@j@bdy
4)方形或长方形细磨后塌角 ^?E^']H)5u
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 - zPm{a
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 BXT 80a\
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 RcY6V_Qx
克 服 方 法 L.SD M z
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 (hpTJsZ
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 F"-S~I7'L
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 NnJ>0|74g
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 -;l`hRW
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 2.^7?ok
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 3js)niT9u
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
