抛光常见疵病产生原因及克服方法 J/Ki]T9
印迹 Hp;Dp!PLa
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ?h4-D:!$ L
2)玻璃化学稳定性不好 @(2DfrC
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 J2H/z5YRJ4
克 服 方 法 \AV6 ;;}&
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 oyV@BHJO@
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 m 5Gt8Z 6a
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ~L
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光圈变形 b48 9sa
1)粘结胶粘结力不适 ]5b%r;_
2)光圈未稳定既下盘 . _JM3o}F
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) A`2l ;MW
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 F<y $Q0Z}
克 服 方 法 :=x-b3U
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 JJ l wzH
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 Ftu~ nh}
3)刚盘定期进行检测和修正 KZ^W@*`D
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 WF#eqU*&
麻点： 8;>vgD
产 生 原 因 {X$8yy2zC5
1) 精细磨、抛光时间不够 FaO1?.
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 qXO@FW]
3)有粗划痕抛断后的残迹 HH/ bBM!
4)方形或长方形细磨后塌角 zTb!$8D"g
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 gd3~R+Kd
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 S;[g 0j
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 F/ ;uN5{o
克 服 方 法 9q xB/5d_
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 Ym
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 aV3:wp]Gn
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 LO{{3No
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 n]G!@-z
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 *Z P$dQ
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 _/0vmgQ&
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
