主要镀膜材料及其性能和用途 K8bKTG \
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 VchI0KL?
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 srCpgs]h
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼,钽,电子枪 增透膜、多层膜 h0O t>e"
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 Oo0SDWI`(
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼,钽,电子枪 增透膜 cTJi8f=g
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 [. Db56
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪,Al2O3 透明导电膜 B{ A b#
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼,钽,钨 增透膜 ;0vCZaEF
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼,钽,钨 增透膜、多层膜 Fc6o6GyL|o
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 4^Y{ BS fF
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨,电子枪 增透膜 /wI"oHZd
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 d@XXqCR<
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 @=sM')f&
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼,钽,钨 增透膜、保护膜 4=~+Bz
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 dM=45$\q
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 KcvstC`
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 lsaA
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 r@a]fTf
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 ~NMx:PP
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽,钨电子枪 增透膜、多层膜 QdrZi.qKH
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼,钽,铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 .0Kc|b=w
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼,电子枪 增透膜 nSv@FT'~z
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 =%ok:+D]
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪,钨 红外膜 85T"(HhT
硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼,钽,电子枪 红外膜 6Hp+?mmh
硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼,钽,电子枪 多层膜 -3K01p
氟化钇 红外膜(10.61.49/632.8nm 200~15000 1100 钼 m)增透膜 R*=88ds
氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 红外膜(10.61400~1600 钼,电子枪 m)增透膜 bFIM07
氟化铝 1.35/500nm 200~8000 800~1000 电子枪,钼,钽 紫外膜 xG(xG%J
氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000 铂 紫外膜 5%%e$o+
氧化钆 1.8/550nm 320~15000 2200 增透膜