主要镀膜材料及其性能和用途 #S74C*'8
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 X/D9%[{&
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 "%iR-s_>
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼，钽，电子枪 增透膜、多层膜 \ Hx#p`B%
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 u6&Ixi/s'
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼，钽，电子枪 增透膜 ; ."{0gq
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 KE1@z]
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪，Al2O3 透明导电膜 9 u89P
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼，钽，钨 增透膜 +?eAaC7s
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼，钽，钨 增透膜、多层膜 j
W]c9 u
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 H_$f
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锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨，电子枪 增透膜 .3SjkC4I
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 Z"&ODVP
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 Xpz-@fqKdf
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼，钽，钨 增透膜、保护膜 8pKPbi;(2
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 |"&4"nwa
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 H0Xda.Y(
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 t-{OP?cE1
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 WED7 ]2>
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 2Mr R|hLx
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽，钨电子枪 增透膜、多层膜 Zl/ +HU~
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼，钽，铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 ?O]gFn
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼，电子枪 增透膜 *VAi! 3Rx;
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 HUX+d4sg
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪，钨 红外膜 ApB'O ;5
硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼，钽，电子枪 红外膜 \}(-9dr
硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼，钽，电子枪 多层膜 obkv ]~
氟化钇 红外膜(10.61.49/632.8nm 200~15000 1100 钼 m)增透膜 5% $kAJZC-
氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 红外膜(10.61400~1600 钼，电子枪 m)增透膜 eh=bClk
氟化铝 1.35/500nm 200~8000 800~1000 电子枪，钼，钽 紫外膜 : :t !W7W
氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000 铂 紫外膜 vx ,6::%]
氧化钆 1.8/550nm 320~15000 2200 增透膜
