主要镀膜材料及其性能和用途 Sd\@Q%
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名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 <V8i>LBlz
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 dDuA%V0
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼,钽,电子枪 增透膜、多层膜 |zT0g]WH
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 Yptsq@s
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼,钽,电子枪 增透膜 w0I
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氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 ^/BE=$E\
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪,Al2O3 透明导电膜 1!C,pXU#:
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼,钽,钨 增透膜 <&Uk!1Jd
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼,钽,钨 增透膜、多层膜 @ixX?N)V
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 Iw:("A&~
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨,电子枪 增透膜 ,6bMfz
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 %N
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 '_<`dzz
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼,钽,钨 增透膜、保护膜 U`Ag|R
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 zn x_p/V
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 2r0!h98
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 Rp|&1nS
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 &sgwY
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 :V2Q n-N
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽,钨电子枪 增透膜、多层膜 4|L@oTzx
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼,钽,铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 :&-}S>pC
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼,电子枪 增透膜 _Kj.
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 Iz8^?>X
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪,钨 红外膜 M^f1D&A