[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ V21njRS  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 ^<X@s1^#  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， /x{s5P3  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 P,sjo u^  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ 9Ct`  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 d
dVa.0Z!<  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， ~8aJ S,u  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 eiJ2NwR\w  
 (2021-12-16 11:58)  Vb qto|X@  

TPhTaKCio  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… n}xhW'3hU=  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 q2:K4  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 zY+Fl~$S  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… ,gnQa  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 PM$Ee #62R  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 LU!1s@  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  MrE<vw@he  

kR.wOJ7'  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  ##~!M(c  

gB+ G'I  
是的。