摘要
;!Mg,jlQ WV5R$IqY 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
svII =JB Yi,um-% $xwF;:) .4-S|]/d, 建模任务
EyiM`)!5 7X"cu6%\ :DP{YL|x dv:&N 入射平面波
r,\(Y@I 波长 2.08 nm
8;@eY`0( 光斑直径: 3mm
-R]S)Odml 沿x方向线偏振
pgarGaeq ^8*.r+7p 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
P^r8JhDJ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
36z{TWF ""=Vt] 概览
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< •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
\wP$"Z}j •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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Sah _N 光线追迹模拟
n1V*VQV •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
fzcT(y
•点击Go!
Ea1>]V •获得3D光线追迹结果。
)eV]M~K: #k6T_ki yCVBG B:SRHd{*Wu 光线追迹模拟
#:X:~T •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
:8FH{sqR •单击Go!
Spb'jAKj' •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
x4(WvQ%O# B("kE` dcsd//E 01b0;| 光场追迹模拟
5Dd;?T> •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
qIl@,8T •单击Go!
+VDB\n A.Njn(z?Lz /$KW$NH4z x[E`2_Ff 0 光场追迹结果(照相机探测器)
43YusUv tBt\&{=|D •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
)DW;Gc •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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T+a !
d(,t[cV 8GX@76o 光场追迹结果(电磁场探测器)
!Wk "a7 b@k3y9& •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
]#;JPO#* p("do1: {|50&]m !^%b|=[ aO{k-44y =619+[fK IcN|e4t^J+ 3:r;(IaX