摘要
Ne3YhCC> F]<2nb7 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
x.Ny@l%] rY@9nQ\>g xd"+ &YT k`z]l;: 建模任务
@li/Y6Wh q^ &r<i U ){4W0 [P }mDX 入射平面波
DV>;sCMJ % 波长 2.08 nm
H _| re 光斑直径: 3mm
dd
+lQJ c 沿x方向线偏振
VH+3o?nrT CQ{{J{pU" 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
w~=xO_% 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
|S<!'rY U(OkTJxv+ 概览
bkpN`+c •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
g "c7$ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
n`jG[{3t& NweGK P)Oe?z;G? 光线追迹模拟
+n%8*F& •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
NMC0y|G •点击Go!
p"H/N_b4 •获得3D光线追迹结果。
hOFvM&$ 4?
rEO(SZ c@nh>G:y{&
J!3;\ 光线追迹模拟
d{ B0a1P •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
+^AAik<yl •单击Go!
i],~tT|P •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
\O,yWyU4 Z0XQ|gkH LN5q_ZvR nYvkeT 光场追迹模拟
d@b2XCh<K •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
Are0Nj&? •单击Go!
j+gh*\:q q @wX= !tx.2m*5 7:JGr O 光场追迹结果(照相机探测器)
9JILK9mVO 4/ q
BD •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
S&'s/jB •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
0&\71txrzg %t74*cX 9U )9u["DH }6{00er 光场追迹结果(电磁场探测器)
OI6m>XH? )U]q{0` •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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