[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 )W>$_QxbN  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 sR>>l3H
 
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 {<@ud0A:\  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 fh3uo\`@  
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系统构建块 M1Ff ,]w  
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组件求解器 i0/QfB%O  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 7F0J*M  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 ru2M"]T  
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几何光学仿真 A|1xK90^XT  
通过光线追迹 BWxJ1ENM  
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结果：光线追迹 As>Og
 
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 0n6eWwY  
通过场追迹 _F[a2PE2+  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 &x\)] i2f  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^.)0O3oC  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 F7jkl4  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 h@*I(ND<  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 OhN2
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