[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 P[<EFjE  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 iDrQ4>  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 Kb,#Ot  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 !y syb  
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系统构建块 c?XqSK`',Z  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 A!.*
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系统构建块 
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总结 k}$k6Sr"  
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几何光学仿真 ``* !b>)  
通过光线追迹 SE<hZLd"  
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结果：光线追迹 StWF66u34&  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 3&ES?
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通过场追迹
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Imm|5-qJ  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 h&$,mbEoI  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 UOtrq=y  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0&k!=gj:>Z  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 a{%]X(';  
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