[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 yRldPk_  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 \ UiITP<  
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场景 +nQp_a1{9%  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 j:'8yFi_  
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系统构建块 2Afg.-7EP  
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组件求解器 e6I7N?j  
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系统构建块 9<1dps=c  
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总结 t/(rB}  
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几何光学仿真 =]W[{@P  
通过光线追迹 g,}_&+q:.M  
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结果：光线追迹 \vqqs  
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快速物理光学仿真 e3]v *<bj  
通过场追迹 $'93:9tg
 
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 F%G} >xn  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 hf< [$B  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 jUd)|v+t  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 \U.js-  
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总结 yVgHu#?PM  
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