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::&hfHR*P 内容简介 nQHQVcDs8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ZLN79r{T 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 %UO ;!&K 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 bb@3%r|_< dXBXV>rbB 讯技科技股份有限公司
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uX! 目录 40M/Gu: Preface 1 gO9\pI2 内容简介 2 s|q]11r+H 目录 i #mFY?Zp) 1 引言 1 #_U[T 2 光学薄膜基础 2 1OwVb 2.1 一般规则 2 5GHW~q!Zo\ 2.2 正交入射规则 3 =Zt7}V 2.3 斜入射规则 6 fxcCz 5 2.4 精确计算 7 ?h1r6?Sug{ 2.5 相干性 8 )W0zu\fL = 2.6 参考文献 10 ;_ TP Jy 3 Essential Macleod的快速预览 10 kJfMTfl, 4 Essential Macleod的特点 32 kX1#+X 4.1 容量和局限性 33 av; ~e< 4.2 程序在哪里? 33 C8oAl3d+h 4.3 数据文件 35 :wcv,YoSG 4.4 设计规则 35 |s}7<A 4.5 材料数据库和资料库 37 !^h{7NmP[ 4.5.1材料损失 38 k04CSzE"% 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @ /yQ4Gr 4.5.2 材料库 41 o;^k"bo6 4.5.3导出材料数据 43 :jP4GCxU| 4.6 常用单位 43 $HE ?B{ 4.7 插值和外推法 46 wV&UB@ 4.8 材料数据的平滑 50 `yXJaTbo 4.9 更多光学常数模型 54 vf&Sk` 4.10 文档的一般编辑规则 55 ymr#OP$<S 4.11 撤销和重做 56 /bBFPrW 4.12 设计文档 57 ;v=v4f'+ 4.10.1 公式 58 QV_e6r1t#m 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 cCWk^lF], 4.10.3 沉积密度 59 >oOZDuj 4.10.4 平行和楔形介质 60 y wf@G;
fK 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 iAd3w 6 4.10.4 性能 61 '{I YANVT 4.10.5 保存设计和性能 64 08pG)_L 4.10.6 默认设计 64 /^jV-Z` 4.11 图表 64 k>aWI 4.11.1 合并曲线图 67 ?yq $
>Qba 4.11.2 自适应绘制 68 F%s'R 0l 4.11.3 动态绘图 68 ;H%T5$:trP 4.11.4 3D绘图 69 JPt0k 4.12 导入和导出 73 HT@/0MF{J 4.12.1 剪贴板 73 NR@n%p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 8t$w/#'@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 +. ` I 4.13 背景 77 ]"DsZI-glW 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 !JOM+P: 4.15 生成Rugate 84 7Ns1b(kU 4.16 参考文献 91 dh.vZ0v=7 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^@a|s
Sb 5.1 Jobs 92 )c"m:3D@ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 6Pzz= ai< 5.3 输入材料 94 ]DV=/RpJ9B 5.4 设计数据文件夹 95 a{deN9Qn 5.5 默认设计 95 rERHfr`OU 6 细化和合成 97 QaAWO 6.1 优化介绍 97 #383W)n
6.2 细化 (Refinement) 98 Bl6>y/ 6.3 合成 (Synthesis) 100 zwEZ?m! 6.4 目标和评价函数 101 Eqc,/ 6.4.1 目标输入 102 {WYHT6Z 6.4.2 目标 103 n\x@~ SzrX 6.4.3 特殊的评价函数 104 cf7UV6D g 6.5 层锁定和连接 104 CPj8`kl 6.6 细化技术 104 W.O]f.h 6.6.1 单纯形 105 i[\`]C{gf 6.6.1.1 单纯形参数 106 (='e9H!3D 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 m0(]%Kdw 6.6.2.1 Optimac参数 108 _,C>+dv) 6.6.3 模拟退火算法 109 N)tqjq 6.6.3.1 模拟退火参数 109 (tLAJ_v!.K 6.6.4 共轭梯度 111 @UG%B7 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 mO1r~-~AJ 6.6.5 拟牛顿法 112 *53@%9 {u 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 F4xXJ"vc 6.6.6 针合成 113 +l8`oQuG 6.6.6.1 针合成参数 114 ha -KfkPFE 6.6.7 差分进化 114 zQNkjQ{mx 6.6.8非局部细化 115 ;I5u"MDHGI 6.6.8.1非局部细化参数 115 ]g0h7q)79 6.7 我应该使用哪种技术? 116 <hA1[S} 6.7.1 细化 116 {0t-Q k 6.7.2 合成 117 j4fv-{=$ 6.8 参考文献 117 w$2Z7S 7 导纳图及其他工具 118 8:=EA3 7.1 简介 118 E#L"*vh 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 PAUepO_ 7.2.1 四分之一波长规则 119 *=p[;V 7.2.2 导纳图 120 'Rg6JW\ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [IgB78_$ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 P
nxx W? 7.5 斜入射导纳图 141 -? |-ux 7.6 对称周期 141 &~SPDiu.t 7.7 参考文献 142 MkCq$MA 8 典型的镀膜实例 143 )8rN 8.1 单层抗反射薄膜 145 TcP
(?v 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 s,*kWy"jp 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0OrT{jo 8.4 W-膜层 148 ;:/< |