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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 Z?X$8o^Z  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 l =_@<p  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 !}3`Pl.(r  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 \iL,l87  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 O?2<rbx  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) ]Z84w!z  
    课程概要 tAC,'im:*  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 cUm9s>^)/  
    U1"t|KW8  
    ROjjN W`W  
    | 5L1\O8#  
    课程大纲 HJ'93,  
    1.波动光学基础 asq/_`  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 -E500F*b  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 7O9s 5  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 N{`l?t0I  
    2.衍射元件概述 kCC9U_dj,  
    □ 衍射光学元件概念 V?O%kd  
    □ 衍射光学元件优点 aW6+Up+G*  
    □ 光束分束、整形、扩散 \Zh)oUHd  
    □ 傅里叶变换 ( Lu.^  
    □ 角谱理论 QhG-1P3#  
    □ 工作装置类型 _5K_YhT  
    3.衍射光学元件理念及设计 8x9kF]=  
    □ 基本理念 $HXB !$d  
    透镜和衍射光学元件的作用 2 Lam vf  
    □ 分束、整形和扩散的实质 kR6 t .  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 (wlsn6h  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 uv-W/p  
    4.IFTA简介 4y1> !~f  
    □ 基本设计步骤 _$'Mx'IC=  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 #w*pWD^  
    参数估算——周期和线宽的估算 hKTg~y^  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 eb/V}%  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 ommKf[h%i  
    5.衍射元件设计案例 >#:/ GN?  
    □ 衍射分束器参数选择 7XDV=PQ[  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 ) *A,L%  
    □ 衍射整形器参数选择 bF KP V%`  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 C^%zV>o  
    □ 衍射扩散器参数选择 p\{+l;`  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 -/-6Td1JY>  
    6.光栅模拟分析 baNfS  
    □ 构建stack +r0eTP=zf  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 ^c\IZ5  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 ya{>=  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 }R1`ThTM  
    ' 4~5ez|:  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 HLe^|  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 <]'"e]  
    7.光栅概述 |\a:]SlH  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件  4 Z}bw#  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 B\ _u${C  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 mei_aN7zW  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 A&P1M6Of  
    8.微纳光学元件制作 VM]IL%AN  
    □ 多阶器件加工 M?B(<j1Ri  
    □ 连续器件加工 mbBRuPEa=u  
    □ 传统套刻法 >'6GcnEb4.  
    激光直写法 m I zBK]@^  
    □ 纳米光子器件制作概述 eU koVr   
    □ 衍射光学元件公差分析 kP)o=\|W{z  
    9.答疑 v\Y}(fD  
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