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sL75C|f9 内容简介 s6%% /| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 c#|!^gjf 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :^j`wd1
h 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $3zs?Fd` v#{Sx>lO 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 w,> ceu/ 目录 Z0s}65BR Preface 1 vmm#UjwF3 内容简介 2 A}?n.MAX> 目录 i [KMW*pA7 1 引言 1 vx62u29m 2 光学薄膜基础 2 HWOs 2.1 一般规则 2 ~CCRs7V/L 2.2 正交入射规则 3 \]dx;,T 2.3 斜入射规则 6 5P-7"g ca 2.4 精确计算 7 8+5#FC7 2.5 相干性 8 rrbD0UzFA 2.6 参考文献 10 @(M-ZO!D 3 Essential Macleod的快速预览 10 $OB 2ZS" 4 Essential Macleod的特点 32 N}Q%y(O^ 4.1 容量和局限性 33 UJMM& 4.2 程序在哪里? 33 /#lhRNX 4.3 数据文件 35 0F> ils 4.4 设计规则 35 8Y?zxmwn] 4.5 材料数据库和资料库 37 8'[g? 4.5.1材料损失 38 89o&KF] 4.5.1材料数据库和导入材料 39 _b|mSo,{Y 4.5.2 材料库 41 hAX@|G. 4.5.3导出材料数据 43 kk#%x#L[ 4.6 常用单位 43 &u&+:m 4.7 插值和外推法 46 ~(bY-6z 4.8 材料数据的平滑 50 o~<Xc 4.9 更多光学常数模型 54 "TEF 4.10 文档的一般编辑规则 55 'ol8l Ia.P 4.11 撤销和重做 56 k8IhQ{@ 4.12 设计文档 57 F|pM$Kd` 4.10.1 公式 58 UgI0
*PE2 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 UtPFkase 4.10.3 沉积密度 59 9'+Eu)l: 4.10.4 平行和楔形介质 60 3}R}|Ha
J# 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 hS&3D6Gt 4.10.4 性能 61 " E+V>V+ 4.10.5 保存设计和性能 64 5"5!\Zo 4.10.6 默认设计 64 /2z, ?,jL 4.11 图表 64 =2v/f_ 4.11.1 合并曲线图 67 j"=F\S&! 4.11.2 自适应绘制 68 kq|(t{@Rp 4.11.3 动态绘图 68 @'n075)h 4.11.4 3D绘图 69 @A32|p} 4.12 导入和导出 73 jHjap:i`cI 4.12.1 剪贴板 73 =D-u".{ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 wT\JA4 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 3
UUOB. 4.13 背景 77 NzS(,F 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 oP>+2.i 4.15 生成Rugate 84 D!7-(3R 4.16 参考文献 91 @7S*
] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 n vzk P{ 5.1 Jobs 92 (U@Ks ) 5.2 创建一个新Job(工作) 93 k-it#'ll{x 5.3 输入材料 94 "06t"u<% 5.4 设计数据文件夹 95 Iu"7 5.5 默认设计 95 l9{}nz 6 细化和合成 97 Yzr)UJl*I 6.1 优化介绍 97 }jE[vVlRw 6.2 细化 (Refinement) 98 [G!#y 6.3 合成 (Synthesis) 100 LH}]& >F 6.4 目标和评价函数 101 |WP}y-Au 6.4.1 目标输入 102 W*2d!/;7> 6.4.2 目标 103 B^;"<2b* 6.4.3 特殊的评价函数 104 _:+hB9n s 6.5 层锁定和连接 104 {$>Pg/ 6.6 细化技术 104 I<+EXH%1, 6.6.1 单纯形 105 L2\<iJA}c 6.6.1.1 单纯形参数 106 i,V,0{$ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 J2ZV\8t 6.6.2.1 Optimac参数 108 76oJCNY 6.6.3 模拟退火算法 109 G0%},Q/ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 7q%xF#mK= 6.6.4 共轭梯度 111 WUBI(g\ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 gOy;6\/ 6.6.5 拟牛顿法 112 Oa.84a 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 OsT|MX 6.6.6 针合成 113 c-VIp A1 6.6.6.1 针合成参数 114 g1kYL$ o4 6.6.7 差分进化 114 G!T_X*^q2U 6.6.8非局部细化 115 0SjB&J 6.6.8.1非局部细化参数 115 }3O 0nab 6.7 我应该使用哪种技术? 116 m?O~(6k@C 6.7.1 细化 116 a^o'KN{ 6.7.2 合成 117 C'7DG\pr 6.8 参考文献 117 Y_zMj`HE 7 导纳图及其他工具 118 XCyU)[wY 7.1 简介 118 xlcL;e&^P 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 &+5ij;AD 7.2.1 四分之一波长规则 119 zC,c9b 7.2.2 导纳图 120 W1Vy5V|M 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $c{fPFe- 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 :X}n[K 7.5 斜入射导纳图 141 vf5q8/a 7.6 对称周期 141 B#DnU;=O#+ 7.7 参考文献 142 ${)oi:K@: 8 典型的镀膜实例 143 5) q_Aro 8.1 单层抗反射薄膜 145 xx@[ecW 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 uv=a}U; 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 r2*8.j51 8.4 W-膜层 148 $b~[>S-Q 8.5 V-膜层 149 W3zYE3DZf 8.6 V-膜层高折射基底 150 W)Ct*I^ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Vk> & 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 O9P+S|hcY 8.9 四层抗反射薄膜 153 /\{emE\] 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 \E=MV~:R 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 _\8jnpT: 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ff;~k?L 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 +
\]-" 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 '}^qz#w 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ]Twyj 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 k Nvb>v 8.17 1/4波长堆栈 162 h,?%,GI 8.18 陷波滤波器 163 uPq@6,+ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ypgM&"eR 8.20 褶皱 165 {O:{F? 8.21 消偏振分光器1 169 eEBo:Rc9 8.22 消偏振分光器2 171 n2can 8.23 消偏振立体分光器 172 jOU99X\0 8.24 消偏振截止滤光片 173 riL|B3 8.25 立体偏振分束器1 174 5 JlgnxRq 8.26 立方偏振分束器2 177 ?7]G)8G6 8.27 相位延迟器 178 .{t*v6(TP 8.28 红外截止器 179 +_L]d6
8.29 21层长波带通滤波器 180 Er;q s *f 8.30 49层长波带通滤波器 181 ,k_"T.w 8.31 55层短波带通滤波器 182 Q6HghG 8.32 47 红外截止器 183 #UE}JR3g 8.33 宽带通滤波器 184 nE +H)%p 8.34 诱导透射滤波器 186 ufe|I 8.35 诱导透射滤波器2 188 ohbU~R3{U 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Q}G2f4 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 qyxd9Lk1 8.35 增益平坦滤波器 193 O,Tp,wT 8.38 啁啾反射镜 1 196 \WBO(,]V 8.39 啁啾反射镜2 198 Dw/vXyZ 8.40 啁啾反射镜3 199 b*Q3j}c Z 8.41 带保护层的铝膜层 200 z#Fel/L`O 8.42 增加铝反射率膜 201 P z~jW):E 8.43 参考文献 202 }K={HW1> 9 多层膜 204 7H09\g& 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 $E&T6=Wn 9.2 内部透过率 204 =IW!ZN_ 9.3 内部透射率数据 205 |gWA'O0S 9.4 实例 206 &l0K~7)b 9.5 实例2 210 4 ob?M:S 9.6 圆锥和带宽计算 212 ]tXIe?>9 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 Vz$xV! 10 光学薄膜的颜色 216 M(nzJ 10.1 导言 216 4#}aLP 10.2 色彩 216 sfip AM 10.3 主波长和纯度 220 4D2U,Ds
10.4 色相和纯度 221 *RxJ8.G 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 =%<,
^2o 10.6 色差 226 n?nzm "g 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 6}m `_d? 10.8 颜色渲染指数 234 7)]boW~Q 10.9 色差计算 235 O Bcz'f~ 10.10 参考文献 236 SzIzQR93& 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Y<|JhqOXK 11.1 短脉冲 238 A
yr, 11.2 群速度 239 $m)gfI]9 11.3 群速度色散 241 "b~C/-W I 11.4 啁啾(chirped) 245 [Q{\Ik 11.5 光学薄膜—相变 245 p:TE## 11.6 群延迟和延迟色散 246 \c<;!vkZ04 11.7 色度色散 246 WKiP0~ 11.8 色散补偿 249 >t.Lc. 11.9 空间光线偏移 256 ?IYu"UO<)| 11.10 参考文献 258 ~h_
_Y> 12 公差与误差 260 (BPO*' 12.1 蒙特卡罗模型 260 T 5Zh2Q@ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 :>.{w$Ln% 12.2.1 误差工具 267 jan}}7Dly 12.2.2 灵敏度工具 271 ]7 Du/)$ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 C{}PO u 12.2.2.2 灵敏度分布 275 pJvPEKN 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 r@}`Sw]@ 12.3 参考文献 276 ij!d-eM/b 13 Runsheet 与Simulator 277 _\KFMe=PV 13.1 原理介绍 277 `@
YV 13.2 截止滤光片设计 277 #lrwKHZ+ 14 光学常数提取 289 },j |eA/W 14.1 介绍 289 'bJGQ[c 14.2 电介质薄膜 289 u+Ix''Fn#% 14.3 n 和k 的提取工具 295 )I[f(f%W7 14.4 基底的参数提取 302 3 nG.ah 14.5 金属的参数提取 306 PkrVQH9^w 14.6 不正确的模型 306 a51e~mg Z` 14.7 参考文献 311 2L1y4nnbwo 15 反演工程 313 ns%gb!FBJX 15.1 随机性和系统性 313 ;O%
H]oN 15.2 常见的系统性问题 314 CdF;0A9.3 15.3 单层膜 314 u0Wt"d-= 15.4 多层膜 314 UP^8Yhdo 15.5 含义 319 mA{?E9W 15.6 反演工程实例 319 ]5jS6@Vl* 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Q3tyK{JE 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Rb L?( 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 e?.j8Q~ 16.1 光学性质的热致偏移 329 ^T!Zz"/: 16.2 应力工具 335 V*b/N 16.3 均匀性误差 339 oh< -&3Jn 16.3.1 圆锥工具 339 YK)m6zW5 16.3.2 波前问题 341 B^/MwD>% 16.4 参考文献 343 vSR&>Q%X 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 w2.]
3QAZ 17.1 引言 345 -y-}g[` 17.2 操作数 345 VKl,m ;& |