[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 7^MX l  
rB%y6P B  
RN[]Jt#6  
\jyjQ,v)  
该用例展示了… B3mS]  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 3]/.\(2  
倾斜光栅介质 ; 0ko@ \Lq  
体光栅介质 \iru7'S  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 6tn+m54_  
Ma6W@S
 
@2 =z}S3O  
Oz{%k#X-  
光栅工具箱初始化 /p)F>WR  
*N F$1  
:l,OalO  
 初始化 ^ve14mbF#.  
开始-> hj!+HHYSk  
光栅-> LjaGyj>)  
通用光栅光路图 5G(E&>~  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 _BS 9GB  
光栅结构设置 exDkq0u]  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 LA4<#KP  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ~W03{9(Vp8  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 rk|@B{CA;  
NTmi 2c  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 CzVmNy)kl  
cp6WMHLj   
堆栈编辑器 VWi2(@R^  
%=Tr^{i  
xAhxD|4_  
+e P.s_t  
堆栈编辑器 G[Tl
%w  
Qi9-z'
 
dqc1q:k?$  
涂层倾斜光栅介质 :243H  
B,vOsa"x6`  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 j6g@tx^)'  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 riCV&0"n  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 )oU)}asY  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高）
&@v<nO-  
3[IJhR[  
bwiD$  
N|:'XwL  
涂层倾斜光栅介质 >#(n"RCHf  
s B 20/F  
;inzyFbL=  
+dW|^I{H}  
涂层倾斜光栅介质 6bO~/mpWT~  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 _P7tnXww  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 @
-:]P8  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 d=3'?l`  
Bh]!WMAw.  
iL]'y\?lv  
06mlj6hV  
涂层倾斜光栅介质参数 e8P-k3a"5:  
r"{<%e  
Dg>^A  
.Y*f2A.v  
涂层倾斜光栅介质参数 $m| V :/  
f{&bOF v  
b-^p1{A0zW  
>mq,}!n  
高级选项&信息 ,0N94pKy  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 {b)~V3rsY  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 LnsD  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 )?aaBaN$  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 g"
_C,XN  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 JXqr3Np1  
1B=>_3_  
'0RwO[A#1  
TQ@d~GR  
高级选项&信息 PWr(*ZP>hI  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 R^#@lI~  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 b=;nm#cAI  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 _BM4>r?\  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 vH[47CvG5  
pB:$lS  
!CTxVLl"F  
p#P~Q/;  
高级选项&信息 eU@Cr7@,|  
23\RJpKb  
nIk$7rGLB  
K2)!h.W  
高级选项&信息 hqvE!Of  
cre;P5^E  
d3Mva,bw<  
W_|0y4QOo  
体光栅介质 4u;9
J*r4  
fV>CZ^=G  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 8IQtz2  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 (2ot5x}`j  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 tRb]7 z  
C4$:mJ>y  
k%c{ETdE  
N2r/ho}8  
体光栅介质参数 {Azn&|%.t  
VosZJv=  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Ex amD">
T  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 1Na@|yY  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 +n0r0:z0  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） X
N=67f$Hw  
"p&Y^]  
$@-P5WcRs  
s8"8y
`u  
体光栅介质参数 MM_k ]-7  
?t&kb7  
<*ZJaBwWU~  
z;f2*F  
高级选项&信息 |~`as(@Ih  
C@ZK~Y_g  
"Mw[P [w*  
BF*kb2"GZ6  
高级选项&信息 8
H,4kY?Z  
!l?.5Pm])  
C&LBr|  
lf{e[!ML'  
在探测器位置处的备注 rEhX/(n#  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 vy2Q g  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 e1(Q(3  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 NL=|z=q  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） zLs|tJOVp  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 +CH},@j  
U@ ?LP  
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