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Pd&KAu|<` 内容简介 )cizd^{ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 tKUW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Xn=yC Pi 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ](R
/4 CtN\-E- 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 KPz0;2} 目录 #$S~QS.g Preface 1 ej_u):G* 内容简介 2 JjI1^FRd 目录 i +|dLR*s 1 引言 1 \jk*Nm8; 2 光学薄膜基础 2 i@rUZYF 2.1 一般规则 2 -j<E_!t 2.2 正交入射规则 3 &aIFtlC 2.3 斜入射规则 6 J#Y0R"fo 2.4 精确计算 7 #A4WFZ 2.5 相干性 8 f9#srIx+ 2.6 参考文献 10 L3oL>r'| 3 Essential Macleod的快速预览 10 $S<B\\
% 4 Essential Macleod的特点 32 ,}W|cm> 4.1 容量和局限性 33 <& PU%^Ha 4.2 程序在哪里? 33 x f{`uHa8 4.3 数据文件 35 B<BS^waU 4.4 设计规则 35 =PA?6Bm 4.5 材料数据库和资料库 37 s'N < 4.5.1材料损失 38 C=oeRc'r1W 4.5.1材料数据库和导入材料 39 l:@=9Fp> 4.5.2 材料库 41 WxYEu+_ 4.5.3导出材料数据 43 ef7 U7 4.6 常用单位 43 0/]h"5H3 4.7 插值和外推法 46 EMe1!) 4.8 材料数据的平滑 50 FXT^r3 4.9 更多光学常数模型 54 A/a=)su 4.10 文档的一般编辑规则 55 ~:{ mKc 4.11 撤销和重做 56 O,
eoO,gB 4.12 设计文档 57 ^#e|^]]
L 4.10.1 公式 58 6B@e[VtG$ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 egA*x*8 4.10.3 沉积密度 59 {06-h %qr 4.10.4 平行和楔形介质 60 ?QFxds 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Zl9 4.10.4 性能 61 j<!dpt 4.10.5 保存设计和性能 64 1mtYap4
4.10.6 默认设计 64 7t<h 'g2 4.11 图表 64 9C?SEbC 4.11.1 合并曲线图 67 +UOVD:G 4.11.2 自适应绘制 68 jcJ@A0] 4.11.3 动态绘图 68 gzhIOeY 4.11.4 3D绘图 69 ]m`:T 4.12 导入和导出 73 FsOJmWZ 4.12.1 剪贴板 73 i75\<X 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 %k?/pRv$> 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 #E
Bdg 4.13 背景 77 5V(#nz 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 PJm@fK(j 4.15 生成Rugate 84 j<
h1s% 4.16 参考文献 91 |PYyhY 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 .?APDr"QQH 5.1 Jobs 92 aJ=)5%$6kc 5.2 创建一个新Job(工作) 93 H1?C:R 5.3 输入材料 94 56kqG}mg& 5.4 设计数据文件夹 95
ZaaBg 5.5 默认设计 95 _VgFuU$h 6 细化和合成 97 =pmG.>Si 6.1 优化介绍 97 !.# g 6.2 细化 (Refinement) 98 U9PI#TX
&O 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~eP~c"L 6.4 目标和评价函数 101 U:7w8$_ 6.4.1 目标输入 102 UzSDXhzObf 6.4.2 目标 103 b-VQn5W 6.4.3 特殊的评价函数 104 X)j%v\#`U 6.5 层锁定和连接 104 *^{j!U37s 6.6 细化技术 104 C%<Dq0j 6.6.1 单纯形 105 {I0!q"sF 6.6.1.1 单纯形参数 106 _-{=Z=?6} 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ]QY-LO( 6.6.2.1 Optimac参数 108 _?felxG[ 6.6.3 模拟退火算法 109 WRbdv{1E 6.6.3.1 模拟退火参数 109 80%"2kG 6.6.4 共轭梯度 111 7~1Fy{tc 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 9-{.W Z 6.6.5 拟牛顿法 112 hEo$Jz` 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 so.}WU 6.6.6 针合成 113 5G2ueRVb 6.6.6.1 针合成参数 114 6IK>v*< 6.6.7 差分进化 114 f$}g'r zl 6.6.8非局部细化 115 O+'k4 6.6.8.1非局部细化参数 115 ;^E\zs 6.7 我应该使用哪种技术? 116 daA&!vnbH* 6.7.1 细化 116 L?a4>uVY 6.7.2 合成 117 F&7Z( 6.8 参考文献 117 kda*rl~c 7 导纳图及其他工具 118 )~$ejS 7.1 简介 118 3zfiegY@wm 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 leSBR,C 7.2.1 四分之一波长规则 119 qD"~5vtLqQ 7.2.2 导纳图 120 @$p6w 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 {='wGx 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 .8'uIA{_2 7.5 斜入射导纳图 141 :ba4E[@ 7.6 对称周期 141 79
_8Oh 7.7 参考文献 142 ^f(El(w 8 典型的镀膜实例 143 pox;NdX7 8.1 单层抗反射薄膜 145 9.~_swkv 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 &,Rye Q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 u@Ni *)p` 8.4 W-膜层 148 &Nr+-$ 8.5 V-膜层 149 v?nGAn 8.6 V-膜层高折射基底 150 eUu<q/FUMj 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 WT,dTn;W 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 71<4q{n 8.9 四层抗反射薄膜 153 MfI+o<{r 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 =NK'xPr 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 KF#qz2S 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 bFA
lC 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 eA(FWO 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 :zfMRg 8.15十五层宽带抗反射膜 159 9zBt
a 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 A2PeI"y 8.17 1/4波长堆栈 162 d[;&2Jz* 8.18 陷波滤波器 163 Xk/:a}-l 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 \Yv44*I` 8.20 褶皱 165 X`E}2|q' 8.21 消偏振分光器1 169 1!+0]_8K 8.22 消偏振分光器2 171 K`|V1L.m 8.23 消偏振立体分光器 172 m\=Cw&( 8.24 消偏振截止滤光片 173 7oL:C 8.25 立体偏振分束器1 174 >)>~S_u 8.26 立方偏振分束器2 177 `X& |